薄膜厚度測量儀主要基于光學(xué)、機(jī)械或電學(xué)原理,來實(shí)現(xiàn)對各種材料表面薄膜厚度的精準(zhǔn)測量。常見的測量方法包括:
1 光學(xué)測量
光學(xué)測量方法多采用干涉法或反射法。干涉法利用光的波動(dòng)性質(zhì),當(dāng)光波在薄膜的不同界面之間反射時(shí),會(huì)形成干涉條紋,通過分析條紋的變化,可以算出薄膜的厚度。反射法則是基于光的反射特性,當(dāng)光照射到具有不同折射率的薄膜時(shí),會(huì)產(chǎn)生反射,通過測量反射光強(qiáng)度的變化,可以推斷出薄膜的厚度。
2 機(jī)械測量
機(jī)械測量方法通常使用探針直接接觸到薄膜表面,利用探針的位移量來計(jì)算薄膜的厚度。這種方法在很多應(yīng)用中非常精準(zhǔn),但對薄膜的紋理和結(jié)構(gòu)要求較高,部分情況下可能會(huì)損傷膜層。
3 電學(xué)測量
電學(xué)測量方法則通過電容或電阻的變化來獲取薄膜的厚度。這類技術(shù)主要用于極薄的膜層,如納米級別的薄膜,能夠提供足夠的靈敏度和準(zhǔn)確性。
相關(guān)產(chǎn)品
免責(zé)聲明
- 凡本網(wǎng)注明“來源:化工儀器網(wǎng)”的所有作品,均為浙江興旺寶明通網(wǎng)絡(luò)有限公司-化工儀器網(wǎng)合法擁有版權(quán)或有權(quán)使用的作品,未經(jīng)本網(wǎng)授權(quán)不得轉(zhuǎn)載、摘編或利用其它方式使用上述作品。已經(jīng)本網(wǎng)授權(quán)使用作品的,應(yīng)在授權(quán)范圍內(nèi)使用,并注明“來源:化工儀器網(wǎng)”。違反上述聲明者,本網(wǎng)將追究其相關(guān)法律責(zé)任。
- 本網(wǎng)轉(zhuǎn)載并注明自其他來源(非化工儀器網(wǎng))的作品,目的在于傳遞更多信息,并不代表本網(wǎng)贊同其觀點(diǎn)和對其真實(shí)性負(fù)責(zé),不承擔(dān)此類作品侵權(quán)行為的直接責(zé)任及連帶責(zé)任。其他媒體、網(wǎng)站或個(gè)人從本網(wǎng)轉(zhuǎn)載時(shí),必須保留本網(wǎng)注明的作品第一來源,并自負(fù)版權(quán)等法律責(zé)任。
- 如涉及作品內(nèi)容、版權(quán)等問題,請?jiān)谧髌钒l(fā)表之日起一周內(nèi)與本網(wǎng)聯(lián)系,否則視為放棄相關(guān)權(quán)利。