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真空等離子清洗機(jī)常見問題，及常見問題處理方案， 在處理過程中,等離子體中被激活的分子和原子會發(fā)出紫外光，從而產(chǎn)生等離子體輝光。
等離子處理為什么需要真空環(huán)境？
在真空環(huán)境產(chǎn)生等離子體的原因很多，主要有有兩個(gè)原a因：
引入真空室的氣體在壓力環(huán)境下不會電離, 在充入氣體電離產(chǎn)生等離子體之前必須達(dá)到真空環(huán)境。
另外,真空環(huán)境允許我們控制真空室中氣體種類，控制真空室中氣體種類對等離子處理體過程的可重復(fù)性是至關(guān)重要的。
處理效果可以保持多長時(shí)間?
如處理表面保持干凈和干燥，大多數(shù)等離子處理后效果可以保持大約48小時(shí)，。但保持時(shí)間根據(jù)處理過程和產(chǎn)品存放環(huán)境而改變。
如果需要更長時(shí)間保持處理效果,清洗完成后立即真空袋包裝將延長保質(zhì)期。
真空等離子處理是如何進(jìn)行?
要進(jìn)行等離子處理產(chǎn)品,首先我們產(chǎn)生等離子體。首先，單一氣體或者混合氣體被引入密封的低壓真空等離子體室。隨后這些氣體被兩個(gè)電極板之間產(chǎn)生的射頻(RF)激活，這些氣體中被激活的離子加速,開始震動。這種振動“用力擦洗”需要清洗材料表面的污染物。
在處理過程中,等離子體中被激活的分子和原子會發(fā)出紫外光，從而產(chǎn)生等離子體輝光。
溫度控制系統(tǒng)常用于控制刻蝕速率。60 - 90攝氏度溫度之間刻蝕，是室溫刻蝕速度的四倍。對溫度敏感的部件或組件,等離子體蝕刻溫度可以控制在15攝氏度。
我們所有的溫度控制系統(tǒng)已經(jīng)預(yù)編程并集成到等離子體系統(tǒng)的軟件中間。設(shè)置保存每個(gè)等離子處理的程序能輕松復(fù)制處理過程。
可以通過向等離子體室中引入不同氣體，改變處理過程。常用的等離子處理氣體包括O2、N2,Ar,H2和CF4。世界各地的大多數(shù)實(shí)驗(yàn)室，基本上都使用這五種氣體單獨(dú)或者混合使用，進(jìn)行等離子體處理。
等離子體處理過程通常需要大約兩到十分鐘。當(dāng)?shù)入x子體處理過程完成時(shí),真空泵去除等離子室中的污染物，室里面的材料是清潔,消過毒的,可以進(jìn)行粘接或下一步程序。
什么是等離子體清洗?
等離子體清洗是利用用一個(gè)叫做等離子體的電離氣體去除材料表面所有有機(jī)物的過程，通常是在真空室中利用氧氣和氬氣進(jìn)行。清洗過程是一個(gè)環(huán)境安全的過程,不使用有毒害的化學(xué)物質(zhì)。
等離子清洗能否去除雜質(zhì)和污染？
原則上等離子清洗是不能去除大量的雜質(zhì)的污染物。低壓等離子清洗機(jī)是一種經(jīng)濟(jì)的表面處理方式，一致性好,安全,干凈。只從處理部分去除表面的污染物，不影響其它部分材料屬性。等離子體處理過程在電路板行業(yè)被廣泛使用。
等離子體處理比其他表面清洗技術(shù)提供了重要的優(yōu)勢。
它適用于大范圍的材料(金屬、塑料、玻璃、陶瓷等)。
它是環(huán)保的選擇。等離子體清洗不需要有害化學(xué)溶劑。顯著節(jié)約成本，可不需要解決其他處理方法對環(huán)境危害的問題。氧氣體通常是一個(gè)合適的處理氣體。
溶劑處理后會留下剩余物，等離子清洗能夠提供一個(gè)無殘留無的最終產(chǎn)品殘。處理消除了脫模劑、抗氧化劑、碳?xì)埩粑?油,和所有種類的有機(jī)化合物。
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