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利用結合脫溶劑裝置的O2-DRC模式ICP-MS分析高純硅介質(zhì)中的雜質(zhì)

閱讀:1572      發(fā)布時間:2020-03-20
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    電感耦合等離子體質(zhì)譜儀技術在商業(yè)化無機元素分析設備中具備優(yōu)良的檢測能力,因而成為超痕量無機元素分析儀市場上重要的設備。應用ICP-MS時,重要的挑戰(zhàn)是同量異位素干擾以及多原子離子干擾的發(fā)生及避免干擾技術的應用。PerkinElmer公司早開發(fā)出以結合AFT(軸向場技術)的DRC(動態(tài)反應池)去除干擾技術為基礎的Elan DRC Series ICP-MS后,多原子干擾問題得到了根本性的解決。近的DRC Cell技術在完善,已發(fā)展為UCT(通用池技術),延伸至PerkinElmer NexlON系列,目前仍被半導體市場用作有效的解決方案。隨著半導體生產(chǎn)現(xiàn)場化學藥品泄漏事故的頻發(fā)及人們對環(huán)境和工業(yè)安全意識的加強,逐漸開始強調(diào)取代DRC Cell技術中普遍使用的純氨氣反應氣的必要性。

    本應用的目的是確認能否使用對環(huán)境和人體無害的洋氣作為反應氣體,來代替半導體制造現(xiàn)場使用的純氨氣反應氣,應用于硅晶片分析等高純硅基體樣品分析領域。

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珀金埃爾默企業(yè)管理(上海)有限公司

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