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產(chǎn)品簡介
詳細(xì)介紹
MicronX型熒光測厚儀是一種專門應(yīng)用于半導(dǎo)體材料和電子器件領(lǐng)域的檢測設(shè)備。 檢測區(qū)域?yàn)?0m~500um. 通過CCD 可放大圖像達(dá)300倍。通過高精密度樣品臺(tái)可提供元素面分布圖。 可對多達(dá)6層的涂層或鍍層進(jìn)行逐層厚度測量。 MicronX 利用X射線熒光的非接觸式的無損測試技術(shù)*地應(yīng)用于微電子學(xué)、光通訊和數(shù)據(jù)儲(chǔ)存工業(yè)中的金屬薄膜測量。 MicronX 可以同時(shí)測量多至6層的金屬鍍層的厚度和成份，測量厚度可以從埃（À）至微米（um），它也能測量多至20個(gè)元素的塊狀合金成份。測定元素：Ti ～ U 。 其光束和探測器的巧妙結(jié)合加上高級的數(shù)字處理技術(shù)使得MicronX 能*地解決您的應(yīng)用。在準(zhǔn)確度和重現(xiàn)性上具有*的性能。 測量更小、更快、更薄MicronX 比現(xiàn)有其它的XRF儀器可以測量更小的面積、更薄的鍍層和更加快速。這是由包括準(zhǔn)直器、探測器、信息處理器和計(jì)算機(jī)等部件在內(nèi)的一整套系統(tǒng)完成的。
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