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地質(zhì)地礦材料研究成套設(shè)備

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產(chǎn)品簡(jiǎn)介：UNIPOL-1200M自動(dòng)壓力研磨拋光機(jī)主要用于材料研究領(lǐng)域

產(chǎn)品簡(jiǎn)介：

UNIPOL-1200M自動(dòng)壓力研磨拋光機(jī)主要用于材料研究領(lǐng)域，廣泛使用于各大專院校、科研院所實(shí)驗(yàn)室的金屬、陶瓷、紅外光學(xué)材料（如硒化鋅、硫化鋅、硅、鍺等晶體）、玻璃、巖樣、礦樣、復(fù)合材料、有機(jī)高分子材料等材料樣品的自動(dòng)研磨拋光，尤其適用于研磨片狀或經(jīng)鑲嵌后呈圓柱狀的小塊樣品，另可用于鋯石測(cè)年靶材制備以及工廠的小規(guī)模生產(chǎn)等.UNIPOL-1200M自動(dòng)壓力采用多點(diǎn)式氣動(dòng)加壓，使載物盤(pán)受力均勻，研磨壓力大小可調(diào)。研磨時(shí)載物盤(pán)可以進(jìn)行順時(shí)針旋轉(zhuǎn)也可以進(jìn)行逆時(shí)針旋轉(zhuǎn)，根據(jù)樣品研磨的難易程度來(lái)進(jìn)行選擇.UNIPOL-1200M自動(dòng)壓力研磨拋光機(jī)可以對(duì)研磨拋光時(shí)間進(jìn)行定時(shí)，達(dá)到研磨時(shí)間機(jī)器自動(dòng)停止，可以實(shí)現(xiàn)無(wú)人看守.氣柱在壓縮空氣的作用下將載物盤(pán)中的樣件壓在旋轉(zhuǎn)的磨拋盤(pán)上，從而實(shí)現(xiàn)樣件定位與磨拋。

產(chǎn)品名稱	UNIPOL-1200M 自動(dòng)壓力研磨拋光機(jī)
產(chǎn)品型號(hào)	UNIPOL-1200M
安裝條件	本設(shè)備要求在海拔 1000m 以下，溫度 25℃±15℃ ，濕度 55%Rh±10%Rh 下使用。 1、水：設(shè)備配有上水口及下水口，需自行連接自來(lái)水及排水 2、電： AC220V 50Hz，必須有良好接地 3、氣：需要自行準(zhǔn)備氣源或者空氣壓縮機(jī) 4、工作臺(tái)：尺寸 800mm×600mm×700mm ，承重 200kg 以上 5、通風(fēng)裝置：不需要
主要特點(diǎn)	1、通過(guò)觸摸式控制屏操作，磨拋盤(pán)按設(shè)定轉(zhuǎn)速逆時(shí)針旋轉(zhuǎn)，載物盤(pán)可按設(shè)定轉(zhuǎn)速及方向順時(shí) 針或逆時(shí)針旋轉(zhuǎn)。 2、多點(diǎn)加載壓力模式，使載物盤(pán)受力均勻，通過(guò)節(jié)流閥控制和調(diào)整壓力大小。 3、研磨精度高，性能穩(wěn)定可靠，操作簡(jiǎn)單，適用范圍廣。
技術(shù)參數(shù)	1、電源： 220V 50Hz；功率： 450W 2、載物盤(pán)： Ø150mm （標(biāo)配載樣件： Ø25mm、可選載樣件： Ø22mm 、Ø30mm 、Ø45mm） 3、磨拋盤(pán)： Ø300mm 4、載物盤(pán)（上盤(pán)）轉(zhuǎn)速： 1rpm-60rpm 內(nèi)無(wú)級(jí)可調(diào) 5、磨拋盤(pán)（下盤(pán)）轉(zhuǎn)速： 50rpm-500rpm 內(nèi)無(wú)級(jí)可調(diào) 6、壓力： 0.15-0.4MPa
產(chǎn)品規(guī)格	尺寸： 660mm×460mm×720mm；重量： 80kg

標(biāo)準(zhǔn)配件	1	鑄鋁拋光盤(pán)	1 個(gè)
	2	載物盤(pán)	1 個(gè)
	3	磁力片	2 片
	4	研拋底片	4 片
	5	砂紙（240#、400# 、800# 、1500#）	各 2 片
	6	拋光墊（磨砂革、合成革、聚氨酯）	各 1 片
	7	金剛石拋光膏（W2.5）	1 支
可選配件	1 、SKZD-2 滴料器 2 、SKZD-3 滴料器 3 、SKZD-4 自動(dòng)滴料器 4 、YJXZ-12 攪拌循環(huán)泵 5、精密測(cè)厚儀 6、陶瓷研磨盤(pán) 7、玻璃研磨盤(pán) 8 、YJXZ-25 自動(dòng)過(guò)濾水箱 9、無(wú)油空氣壓縮機(jī)