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寫真化學通過光學干涉法計算測厚儀
  • 寫真化學通過光學干涉法計算測厚儀

貨物所在地：北京北京市

所在地： 日本

更新時間：2024-11-02 16:18:09

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寫真化學通過光學干涉法計算測厚儀

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    • 在顯微鏡視場中測量任意區(qū)域的薄膜厚度和薄膜質量分布
      ，并以 3D 形式顯示分布

    • 薄膜厚度分布的原位可視化



    • 分辨率與可見光波長光學涂層測厚儀相當

    • 波長范圍從 450 nm 到 750 nm，可以 1 nm 的增量

    • 膜厚測量分辨率：0.1 nm 或更小



    • 使用與反射膜厚度監(jiān)視器相同的計算引擎進行并行計算

    • 高速、多層同時測量 9 層

    • 應用實例

    1. （1） 數(shù)百層重復層壓薄膜和溝槽等復合結構

    2. （2） 用 EMA（有效介質近似）法估計亞微米圖案的密度

    3. （3） 局部結晶度評估


    • 您可以根據(jù)工件和應用選擇物鏡

    • 通過物鏡和面積規(guī)格測量任意面積的膜厚分布


    這是一種可以通過顯微圖像光譜可視化透明多層膜的膜厚分布的膜厚計。
    由于薄膜厚度是通過光學干涉法計算的，因此
    薄膜厚度分布可以以 0.1 nm 或更低的分辨率以 3D 形式顯示。

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