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SHASHIN寫真化學(xué)透明蓋測厚儀
  • SHASHIN寫真化學(xué)透明蓋測厚儀

貨物所在地：北京北京市

所在地： 日本

更新時間：2024-11-02 16:03:44

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( 聯(lián)系我們，請說明是在 化工儀器網(wǎng) 上看到的信息，謝謝！）

SHASHIN寫真化學(xué)透明蓋測厚儀，能夠?qū)ψ畲?300 mm 的晶圓的整個表面進行自動涂層厚度映射測量


    • 能夠?qū)ψ畲?300 mm 的晶圓的整個表面進行自動涂層厚度映射測量


    • 2

    • 自動對位功能


    • 通過自動檢測缺口和無花柱位置，以及自動檢測晶圓偏心率，實現(xiàn)高精度測量。

    • 3

    • 通過使用具有高平整度的晶圓卡盤，提高晶圓表面的測量可靠性


    • 4

    • 可根據(jù)應(yīng)用選擇三種類型的光源。


    • 5

    • 透明蓋，便于在測量過程中查看運動


    • 6

    • 一體化節(jié)省空間的設(shè)計

長處

映射涂層測厚儀能夠在最大 300 mm 的晶圓的所有表面上自動映射膜厚測量。 自動對位功能和使用具有高平整度的晶圓卡盤可實現(xiàn)可靠的薄膜厚度測量。 此外，它可以安裝在半導(dǎo)體制造設(shè)備的負載端口，以在保持清潔度的同時管理制造設(shè)備上的薄膜厚度。

  • 測量數(shù)據(jù)示例（2D 膜厚分布）層壓晶圓的硅
    厚度 （nm）

  • 測量數(shù)據(jù)示例（3D 薄膜厚度分布）層壓晶圓的硅厚度
    （nm）

  • 測量數(shù)據(jù)示例（薄膜厚度的頻率分布）層壓晶圓中的硅厚度

  • 測量數(shù)據(jù)示例（多個晶圓的膜厚分布箱線圖）5 個晶圓的膜厚分布趨勢


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