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中級(jí)會(huì)員 | 第2年

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安裝在半導(dǎo)體制造設(shè)備的負(fù)載端口測(cè)厚儀
  • 安裝在半導(dǎo)體制造設(shè)備的負(fù)載端口測(cè)厚儀

貨物所在地：北京北京市

所在地： 日本

更新時(shí)間：2024-11-02 15:35:15

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安裝在半導(dǎo)體制造設(shè)備的負(fù)載端口測(cè)厚儀，映射涂層測(cè)厚儀能夠在最大 300 mm 的晶圓的所有表面上自動(dòng)映射膜厚測(cè)量。 自動(dòng)對(duì)位功能和使用具有高平整度的晶圓卡盤(pán)可實(shí)現(xiàn)可靠的薄膜厚度測(cè)量。


    • 1

    • 能夠?qū)ψ畲?300 mm 的晶圓的整個(gè)表面進(jìn)行自動(dòng)涂層厚度映射測(cè)量


    • 2

    • 自動(dòng)對(duì)位功能


    • 通過(guò)自動(dòng)檢測(cè)缺口和無(wú)花柱位置，以及自動(dòng)檢測(cè)晶圓偏心率，實(shí)現(xiàn)高精度測(cè)量。

    • 3

    • 通過(guò)使用具有高平整度的晶圓卡盤(pán)，提高晶圓表面的測(cè)量可靠性


    • 4

    • 可根據(jù)應(yīng)用選擇三種類(lèi)型的光源。


    • 5

    • 透明蓋，便于在測(cè)量過(guò)程中查看運(yùn)動(dòng)


    • 6

    • 一體化節(jié)省空間的設(shè)計(jì)

  • 測(cè)量數(shù)據(jù)示例（2D 膜厚分布）層壓晶圓的硅
    厚度 （nm）

  • 測(cè)量數(shù)據(jù)示例（3D 薄膜厚度分布）層壓晶圓的硅厚度
    （nm）

  • 測(cè)量數(shù)據(jù)示例（薄膜厚度的頻率分布）層壓晶圓中的硅厚度

  • 測(cè)量數(shù)據(jù)示例（多個(gè)晶圓的膜厚分布箱線圖）5 個(gè)晶圓的膜厚分布趨勢(shì)

映射涂層測(cè)厚儀能夠在最大 300 mm 的晶圓的所有表面上自動(dòng)映射膜厚測(cè)量。 自動(dòng)對(duì)位功能和使用具有高平整度的晶圓卡盤(pán)可實(shí)現(xiàn)可靠的薄膜厚度測(cè)量。 此外，它可以安裝在半導(dǎo)體制造設(shè)備的負(fù)載端口，以在保持清潔度的同時(shí)管理制造設(shè)備上的薄膜厚度。

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