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池田屋實(shí)業(yè)(深圳)有限公司

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    曝光設(shè)備原理以及應(yīng)用池田屋實(shí)業(yè)曝光設(shè)備原理以及應(yīng)用池田屋實(shí)業(yè)什么是曝光設(shè)備?曝光裝置是在半導(dǎo)體、液晶顯示器等制造現(xiàn)場(chǎng)使用的裝置,通過(guò)照射光在基板上描繪電路、像素等圖案。由于它們使用的光線并需要精確控制平臺(tái)等,許多產(chǎn)品體積龐大且成本數(shù)十億美元。曝光工序是半導(dǎo)體和液晶顯示器制造中決定設(shè)計(jì)數(shù)據(jù)(CAD數(shù)據(jù))圖案的工序,因此是極其重要的設(shè)備。每家公司都開(kāi)發(fā)了多種曝光方法并在自己的設(shè)備中使用它們。曝光設(shè)備的應(yīng)用圖1.TFT液晶顯示器的TFT基板側(cè)的制造流程概述曝光設(shè)備主要用于半導(dǎo)體制造現(xiàn)場(chǎng)和液晶顯示器等平
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    什么是掃描電子顯微鏡?掃描電子顯微鏡(SEM)是電子顯微鏡的一種,通過(guò)用電子束照射樣品并檢測(cè)樣品發(fā)射的二次電子來(lái)觀察樣品的表面狀況,是一種可以測(cè)量的裝置。通過(guò)使用掃描電子顯微鏡,甚至可以觀察光學(xué)顯微鏡難以觀察的微小結(jié)構(gòu)。因此,它被廣泛應(yīng)用于材料工程、生物化學(xué)等領(lǐng)域。掃描電子顯微鏡的應(yīng)用掃描電子顯微鏡的放大倍數(shù)可以提高到幾十萬(wàn)倍,分辨率可以提高到幾個(gè)納米。它還具有較深的焦深,可以輕松觀察樣品的不規(guī)則性。光學(xué)顯微鏡的放大倍數(shù)極限約為1,000倍,分辨率極限約為150nm,因此使用掃描電子顯微鏡可以比
  • X熒光分析儀的類(lèi)型 池田屋實(shí)業(yè)

    什么是熒光X射線分析儀?X射線熒光光譜儀是利用X射線熒光(XRF)用短波長(zhǎng)X射線照射材料,測(cè)量產(chǎn)生的特征X射線來(lái)測(cè)定材料的化學(xué)成分的一種分析設(shè)備。熒光X射線光譜儀可以以數(shù)ppm的靈敏度檢測(cè)特定元素,并在不損壞測(cè)量目標(biāo)的情況下快速進(jìn)行主成分的定量分析。分析設(shè)備的類(lèi)型多種多樣,從大型、高靈敏度和精確的設(shè)備到可以隨身攜帶并在幾秒鐘內(nèi)完成分析的便攜式設(shè)備,您可以選擇您的目的的設(shè)備。熒光X射線分析儀的應(yīng)用由于X射線熒光光譜儀可以輕松檢測(cè)金屬元素,因此常用于檢測(cè)產(chǎn)品中的異物以及確定重金屬造成的環(huán)境污染。此外
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