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當前位置：天津瑞利光電科技有限公司>> Obducat納米壓印光刻工具EITRE 3
| 參 考 價 | 面議 |
| 產地類別 | 進口 | 應用領域 | 電子,電氣 |
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產品名稱：Obducat納米壓印光刻工具EITRE 3
產品型號：EITRE 3
產品介紹
易于使用的半自動化經濟型工具系列，適用于尺寸（max）為 8“ x 8" 的基底，可在微米和納米尺度上進行圖案復制。EITRE 工具具有多種壓印工藝能力和廣泛的配置可能性，因此用途特別廣泛。
性能特點
l EITRE 納米壓印光刻（NIL）工具提供了一種半自動、經濟實惠的光刻解決方案，可以在微米和納米范圍內復制圖案。
l EITRE 工具具有多種壓印工藝能力和廣泛的配置可能性，因此用途特別廣泛。
l 易于使用的半自動工具，界面友好。
l 嵌入式 SoftPress 技術可確保對整個壓印區(qū)域的殘余層厚度進行控制，從而實現(xiàn)準確的圖案轉移和簡單的下游工藝開發(fā)。
l 工具的靈活性允許使用多種壓印工藝，如熱壓印、熱NIL、UV NIL 和 Obducat 同步熱壓和 UV (STU) 工藝。
l EITRE 工具適用于固態(tài)照明、微型光學和光子元件和生命科學設備、片上實驗室、MEMS/NEMS 和半導體等應用領域的研究和開發(fā)。
l 全面積的壓印。
l 紫外線模塊可配置為 50-400 mW/cm2 的基板級強度。
l 根據(jù)歐洲安全法規(guī)和 CE 標志設計。
技術參數(shù)
產地：瑞典
基底尺寸：≤ 78 mm ?
壓印壓力（min）：6-8 bar（取決于 CA 的入口壓力）
壓印壓力（max）：70 bar
壓印溫度（min）：環(huán)境溫度
壓印溫度（max）：250°C（使用紫外模塊時為 200°C）
壓印溫度設置：精度± 2 度
無塵室適用性：Class 100
室溫：18-32°C
相對濕度：40 - 65%
電源：220-240 VAC，單相，接地，預熔絲至 16A，50/60 Hz，3 kVA
壓縮空氣：6 - 8 bar，30 l / min
排氣流量：1000 - 2000 l / min
尺寸（長 x 寬 x 高）：80 x 60 x 180 厘米
重量：約250 千克
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