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當前位置：天津瑞利光電科技有限公司>> ABeam Technologies載物臺XENOS XeMove
| 參 考 價 | 面議 |
產(chǎn)品型號
品 牌其他品牌
廠商性質(zhì)經(jīng)銷商
所 在 地天津市
更新時間：2024-03-04 15:47:43瀏覽次數(shù)：142次
聯(lián)系我時，請告知來自 化工儀器網(wǎng)| 產(chǎn)地類別 | 進口 | 應用領(lǐng)域 | 電子,電氣 |
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產(chǎn)品名稱：ABeam Technologies載物臺XENOS XeMove
產(chǎn)品型號：XENOS XeMove
產(chǎn)品介紹
XENOS XeMove載物臺使用先進的激光測量系統(tǒng)和超聲波壓電驅(qū)動技術(shù)，結(jié)合我們的光刻系統(tǒng)（測量分辨率為10nm），可獲得優(yōu)于100nm的縫合和覆蓋精度。
XeMove：電子束光刻平臺
緊湊的設計允許用作子階段或更換階段，只需要電氣室饋通。所有組件都是高真空兼容且非鐵磁的。緊湊的設計包括激光測量系統(tǒng)和壓電驅(qū)動部件。軸上測量將偏航誤差的影響降至更低。行程范圍從55毫米到120毫米不等。
性能特點
l 集成到現(xiàn)有系統(tǒng)中不需要復雜且昂貴的腔室修改。
l 測量系統(tǒng)不需要激光視口，載物臺電機不需要機械饋通，所有有源部件都放置在真空室內(nèi)，并通過標準電氣饋通進行電子控制。
l 對于某些腔室設計（例如JEOL JSM-7xxx），載物臺可以通過負載鎖插入，并通過腔室內(nèi)的特殊電ZIF觸點連接。
l 當平臺停止時，驅(qū)動電機斷電，位置被機械鎖定，從而將總功耗降至更低，防止加熱和相關(guān)漂移。
技術(shù)參數(shù)
產(chǎn)地：美國
類型：電子束光刻平臺
測量分辨率：10nm
行程范圍：55mm到120mm
縫合精度：優(yōu)于100nm
覆蓋精度：優(yōu)于100nm
激光視口：不需要
機械饋通：不需要
觸點連接：ZIF
兼容：高真空
組件：非鐵磁
部件驅(qū)動：壓電
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