PRO Line PVD 75
多功能濺射、電子束和熱蒸發(fā)沉積平臺
Kurt J. Lesker Company PRO Line PVD 75 是基于主力 PVD 75 平臺的下一代薄膜沉積系統(tǒng)。PVD 75 在全球擁有 400 多臺設備，是一款久經考驗、堅固耐用且用途廣泛的設計。PRO Line PVD 75 建立在原始設計的成功基礎上，改進了系統(tǒng)基礎壓力和抽空時間。技術的腔室設計、具有高級編程功能的行業(yè)最佳軟件控制系統(tǒng)、自動基板加載以及用于優(yōu)化薄膜性能的眾多功能是這種創(chuàng)新的設計提供的一些關鍵優(yōu)勢。®
規(guī)格
室
箱形304L不銹鋼腔體
內部尺寸：
15.25“ 寬 x 16.50" 深 x 24“ 高
（387.4mm x 419.1mm x 609.6mm）
鋁，O 形圈密封，鉸鏈，前檢修門
沉積技術
熱蒸發(fā)
最多四艘 4 英寸的單艘船，或六艘 2 英寸的船組件
TORUS 磁控濺射源
多達 6 個 2 英寸或 3 英寸光源
多達 4 個 4 英寸信號源
電子束蒸發(fā)源
4 口袋 8cc
8 口袋 12cc
6 口袋 20cc
LTE10 有機沉積源
最多兩個 10cc 源
沉積方向
熱蒸發(fā)
向上
TORUS 磁控濺射源
向上、向下或側濺射
電子束蒸發(fā)
向上
LTE有機沉積
向上
底物操作
旋轉、加熱、冷卻、偏置、負載鎖定兼容
電源
DC、PDC、RF、MF 和 HIPIMS 電源
化工儀器網(wǎng)