1 產(chǎn)品概述:

   批次式濺射設(shè)備通常具有較大的處理腔室，能夠同時(shí)處理多個(gè)基片或大面積基片。設(shè)備內(nèi)部配備有精密的靶材安裝系統(tǒng)、基片旋轉(zhuǎn)裝置、真空系統(tǒng)以及控制系統(tǒng)等關(guān)鍵部件。在工作時(shí)，設(shè)備首先通過真空系統(tǒng)抽除腔室內(nèi)的空氣，達(dá)到所需的真空度，然后通入工作氣體（如氬氣）并施加電壓，使氣體電離產(chǎn)生高能粒子。這些高能粒子轟擊靶材表面，將靶材原子或分子濺射出來(lái)，并沉積在旋轉(zhuǎn)的基片表面，形成均勻的薄膜。

2 設(shè)備用途：

批次式濺射設(shè)備在多個(gè)領(lǐng)域具有廣泛的應(yīng)用，主要包括：

1. 光學(xué)領(lǐng)域：用于制備光學(xué)鏡片、濾光片、反射鏡等光學(xué)元件的鍍膜，以改善其透光性、反射率等光學(xué)性能。

2. 電子領(lǐng)域：在半導(dǎo)體器件、集成電路、平板顯示器等電子產(chǎn)品的制造過程中，用于制備導(dǎo)電膜、絕緣膜、擴(kuò)散阻擋層等功能性薄膜。

3. 汽車工業(yè)：在汽車零部件（如車燈、車窗、車身裝飾件等）的制造中，用于增加表面硬度、耐磨性、耐腐蝕性等性能，同時(shí)提高美觀度。

3 設(shè)備特點(diǎn)

批次式濺射設(shè)備具有以下顯著特點(diǎn)：

1. 高效性：能夠同時(shí)處理多個(gè)基片或大面積基片，顯著提高生產(chǎn)效率。

2. 均勻性：通過基片旋轉(zhuǎn)裝置和精密的靶材安裝系統(tǒng)，確保薄膜在基片表面的均勻分布。

3. 靈活性：可更換不同材質(zhì)的靶材，以制備不同種類的薄膜，滿足不同工藝需求。

4. 可控性：配備有先進(jìn)的控制系統(tǒng)，可精確控制濺射過程中的各項(xiàng)參數(shù)（如電壓、電流、氣體流量等），以獲得所需的薄膜性能。

4 技術(shù)參數(shù)和特點(diǎn)：

批次式濺射設(shè)備SV系列

SV系列為縱型batch式濺射設(shè)備。為可以處理大量基板的回轉(zhuǎn)型設(shè)備。

SV-4540、6040、9045為回轉(zhuǎn)型設(shè)備基板裝載量大、適用于小~中規(guī)模的生產(chǎn)或少量多品種的生產(chǎn)

各種基板上的電膜成膜、絕緣膜、電介質(zhì)膜成膜