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深圳市矢量科學(xué)儀器有限公司

掃描電鏡等離子清洗機

參  考  價:面議
具體成交價以合同協(xié)議為準(zhǔn)

產(chǎn)品型號CIF-SEM

品牌CIF

廠商性質(zhì)經(jīng)銷商

所在地深圳市

更新時間:2024-09-05 14:34:10瀏覽次數(shù):778次

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CIF掃描電鏡等離子清洗機采用遠程等離子清洗源設(shè)計,清洗快速、高效、低轟擊損傷,主要用于SEM或FIB等電鏡腔體內(nèi)碳?xì)浠衔锏那逑础?/div>

一、產(chǎn)品概述:

掃描電鏡等離子清洗機是一款專為掃描電子顯微鏡(SEM)樣品準(zhǔn)備而設(shè)計的高效清洗設(shè)備。該機利用等離子體技術(shù),通過活性氣體的激發(fā),去除樣品表面的有機污染物和微塵,確保樣品在顯微觀察中的清潔和高質(zhì)量成像。掃描電鏡等離子清洗機具有快速、均勻的清洗效果,并能夠處理各種材料,包括金屬、陶瓷和聚合物等。其自動化控制系統(tǒng)使得操作簡單便捷,廣泛應(yīng)用于材料科學(xué)、納米技術(shù)和生物醫(yī)學(xué)等領(lǐng)域,為研究人員提供可靠的樣品處理解決方案。

CIF 掃描電鏡(SEM)等離子清洗機采用遠程等離子清洗源設(shè)計,清洗快速、高效、低轟擊損傷,主要用于SEM或FIB等電鏡腔體內(nèi)碳?xì)浠衔锏那逑础?/span>

二、設(shè)備用途/原理

·設(shè)備用途

掃描電鏡等離子清洗機主要用于準(zhǔn)備掃描電子顯微鏡(SEM)樣品,去除樣品表面的有機污染物、微塵和其他雜質(zhì)。它廣泛應(yīng)用于材料科學(xué)、納米技術(shù)和生物醫(yī)學(xué)等研究領(lǐng)域,以確保樣品在顯微觀察中的清潔和高質(zhì)量成像。

·工作原理

該設(shè)備通過等離子體技術(shù)進行清洗。首先,等離子清洗機將特定的氣體(如氧氣或氬氣)引入反應(yīng)室,并通過高頻電源激發(fā)氣體形成等離子體。等離子體中的活性粒子與樣品表面的污染物反應(yīng),分解并去除這些雜質(zhì)。該過程能夠快速且均勻地清洗各種材料,確保樣品表面達到所需的清潔度,從而提高掃描電子顯微鏡的成像質(zhì)量和分析準(zhǔn)確性。

三、主要技術(shù)指標(biāo):

產(chǎn)品型號

CIF-SEM

法蘭接口

KF40(CF40)

工作氣壓

0.3-3Pa

等離子電源

13.56MHz射頻電源,射頻功率5-150W可調(diào),


遠程等離子源,自動匹配器

氣體控制

標(biāo)配單路質(zhì)量流量計(MFC)可選雙路。50毫升/分,自動控制氣體流量,不會受環(huán)境溫度和壓力變化影響

氣源選擇

根據(jù)需求氧氣、氬氣、氮氣、氫氣等多種清洗氣源選擇

真空控制

皮拉尼真空計,測量范圍1E-5Torr

真空保證

真空計和電磁閥安全互鎖

操控方式

7寸全彩觸摸屏控制,中英文互動操作界面

電源/功率

220V,50/60Hz,300W

可選配件

可選氧氣、氮氣、氫氣發(fā)生器, 氫氣純度﹥99.999%,輸出流量0-300ml/min

質(zhì)量保證

二年質(zhì)保,終身維護

四、產(chǎn)品特點

1.遠程等離子清                                  

2.清洗快速、高效                        

3.低轟擊損傷 


有掩膜光刻機

1.手動、半自動、全自動有掩膜光刻機$r$n2.高分辨率掩模對準(zhǔn)光刻,

無掩膜/激光直寫光刻機

無掩膜/激光直寫光刻機 參數(shù):1. 光源:375 nm、385 nm、

電子束光刻系統(tǒng)

電子束光刻系統(tǒng) 技術(shù)參數(shù):$r$n1.最小線寬≤8nm 光柵周期

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