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當(dāng)前位置：深圳市矢量科學(xué)儀器有限公司>>半導(dǎo)體前道工藝設(shè)備>>1 光刻設(shè)備>> GL6 R&D納米壓印系統(tǒng)
| 參 考 價: | 面議 |
產(chǎn)品型號GL6 R&D
品牌天仁微納
廠商性質(zhì)經(jīng)銷商
所在地青島市
更新時間：2024-09-06 14:51:14瀏覽次數(shù)：1238次
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1. 兼容基底尺寸：直徑≤100mm
2. 支持基底材料：硅片、玻璃、石英、塑料、金屬等
3. 納米壓印技術(shù)：旋涂膠基底高精度壓印&點膠自動找平壓印、旋涂膠基底壓印、點膠自動找平壓印模式
4. 壓印精度：優(yōu)于10nm
5. 結(jié)構(gòu)深寬比：優(yōu)于10：1
6. 殘余層控制：可小于10nm 微米級TTV控制精度
7. 紫外固化光源：紫外LED（365nm）面光源，光強>300mW/cm2
8. 自動壓印/自動脫模/自動工作模具復(fù)制/主動找平壓印/模自動點膠：支持
9. 模具基底對位系統(tǒng)：手動對位（選配）
10. 上下片方式：手動上下片
二、技術(shù)優(yōu)勢：
隨機提供全套納米壓印工藝與材料，包括DOE、AR斜齒光柵、高密度、高深寬比結(jié)構(gòu)、微透鏡陣列、勻光片結(jié)構(gòu)等工藝流程，幫助客戶零門檻達到國際納米壓印水平。
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