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深圳市矢量科學儀器有限公司

  • 化學氣相沉積 (PECVD) 設備

    PD-2201LC 是一種盒式裝載等離子體增強化學氣相沉積 (PECVD) 設備，能夠沉積硅基薄膜（氧化硅、氮化硅、氧氮化硅和非晶硅）。該系統(tǒng)在節(jié)省空間的提下提...
    型號： PD-2201LC 所在地：國外 參考價： 面議 更新時間：2024/9/6 10:16:09 對比

  • 高密度等離子刻蝕裝置

    高密度等離子刻蝕裝置ULHITETM NE-7800H高密度等離子客戶裝置ULHITE NE-7800H是對應刻蝕FeRAM、MRAM、ReRAM、PCRAM等...
    型號： ULHITETM ... 所在地：國外 參考價： 面議 更新時間：2024/9/6 10:14:02 對比

  • 等離子增強化學氣相沉積PECVD

    設計PECVD工藝模式的目的是要在控制薄膜性能，如折射率、應力、電學特性和濕法化學刻蝕速率的前提下，生產(chǎn)均勻性好且沉積速率高的薄膜。PlasmaPro 100 ...
    型號： PlasmaPro... 所在地：國外 參考價： 面議 更新時間：2024/9/6 10:10:40 對比

  • 高真空電子束蒸發(fā)薄膜沉積系統(tǒng)

    高真空電子束蒸發(fā)薄膜沉積系統(tǒng)主要由蒸發(fā)室、主抽過渡管路、旋轉基片架、光加熱系統(tǒng)、電子槍及電源、石英晶體振蕩膜厚監(jiān)控儀、工作氣路、抽氣系統(tǒng)、控制系統(tǒng)、安裝機臺等部...
    型號： EB900 所在地：沈陽市 參考價： 面議 更新時間：2024/9/6 10:10:28 對比

  • 原子層沉積ALD

    Kurt J. Lesker Company （KJLC） ALD150LE™是我們但極其靈活的原子層沉積 （ALD） 系統(tǒng)，專為入門級到中級用戶而...
    型號： ALD-150LE... 所在地：國外 參考價： 面議 更新時間：2024/9/6 10:09:18 對比

  • 程控伺服勻膠機

    AC200-S-PP勻膠機，伺服驅動，PLC控制，7寸觸屏，真空可調，支持加熱，工業(yè)級應用，處理基片能力強。概述了AC200-S-PP程控伺服勻膠機的核心特性與...
    型號： AC200-S-P... 所在地：深圳市 參考價： 面議 更新時間：2024/9/6 10:05:48 對比

  • 離子束沉積設備

    光掩模制造需要高水平的顆粒控制，同時沉積復雜的多層薄膜結構。Veeco 的 Nexus IBD-LDD 離子束沉積系統(tǒng)可以應對這一挑戰(zhàn)。自 1990 年代以來，...
    型號： NEXUS IBD... 所在地：深圳市 參考價： 面議 更新時間：2024/9/6 10:02:06 對比

  • NLD干法刻蝕設備

    研究開發(fā)向NLD干法刻蝕設備NLD-570研究開發(fā)向NLD干法刻蝕設備NLD-570，是搭載了愛發(fā)科磁性中性線（NLD- neutral loop discha...
    型號： NLD-570 所在地：國外 參考價： 面議 更新時間：2024/9/6 9:59:57 對比

  • 干法刻蝕設備

    干法刻蝕設備 APIOS NE-950EX對應LED量產(chǎn)用的干法刻蝕設備?NE-950EX?相對我司以往設備實現(xiàn)了140%的生產(chǎn)力。是搭載了ICP高密度等離子源...
    型號： APIOS NE-... 所在地：國外 參考價： 面議 更新時間：2024/9/6 9:58:14 對比

  • 干法刻蝕裝置

    對應光學器件、MEMS制造的干法刻蝕裝置NLD-5700對應光學器件、MEMS制造的干法刻蝕裝置NLD-5700是搭載了磁性中性線（NLD- neutral l...
    型號： NLD-5700 所在地：國外 參考價： 面議 更新時間：2024/9/6 9:54:46 對比

  • 投影掃描光刻機

    SUSS MicroTec公司推出了其下一代投影掃描光刻機‐DSC300投影掃描光刻機。這種專有的掃描光刻平臺擁有三位數(shù)的產(chǎn)能，并達到解析度（ 2 μm）的分辨...
    型號： DSC300 所在地：國外 參考價： 面議 更新時間：2024/9/6 9:53:56 對比

  • 程控伺服勻膠機

    AC200-SE程控伺服勻膠機，高精度伺服驅動，PLC智能控制，7寸觸屏操作，耐溶劑材質，適用于多種工業(yè)應用。
    型號： AC200-SE標... 所在地：深圳市 參考價： 面議 更新時間：2024/9/6 9:49:13 對比

  • 電子束光刻機

    ELS-HAYATE是由ELIONIX研發(fā)的超高吞吐量電子束光刻機，提供業(yè)界大的 5 毫米偏轉。非常適合需要關注字段間拼接錯誤的應用。
    型號： ELS-HAYAT... 所在地：日本 參考價： 面議 更新時間：2024/9/6 9:46:19 對比

  • 小巧型勻膠機

    EZ4-S-PP小巧型勻膠機，小巧耐腐蝕，適用于手套箱內(nèi)，液晶顯示，程序可調，支持4寸底物，鋁合金/PP外殼可選。
    型號： EZ4-S 所在地：深圳市 參考價： 面議 更新時間：2024/9/6 9:44:22 對比

  • 薄膜沉積PVD設備

    Kurt J. Lesker Company PVD-BATCH DRUM系列由兩種標準尺寸（PVD 200 和 PVD 500）組成，可配置為水平或垂直配置。...
    型號： PVD-BATCH... 所在地：國外 參考價： 面議 更新時間：2024/9/6 9:44:10 對比

  • 電子束光刻機

    ELS-BODEN Σ這是ELONIX自創(chuàng)業(yè)以來多年來一直致力于開發(fā)的新型號的電子束光刻機。 采用模塊系統(tǒng)，可以自由組合加速電壓、腔室尺寸、傳輸機構和防振臺，為...
    型號： ELS-BODEN... 所在地：日本 參考價： 面議 更新時間：2024/9/6 9:42:57 對比

  • 電子束光刻機

    ELS-BODEN是由ELIONIX開發(fā)的電子束光刻機，非常適合研究和開發(fā)！支持從高清繪圖到大電流高速繪圖的廣泛應用。
    型號： ELS-BODEN 所在地：日本 參考價： 面議 更新時間：2024/9/6 9:39:08 對比

  • 多片式MOCVD系統(tǒng)

    Satur系列 多片式MOCVD系統(tǒng)，優(yōu)異的均勻性、一致性、穩(wěn)定性控制，MOCVD 即金屬有機物化學氣相沉積，是一種用于生長化合物半導體薄膜的技術。它通過將Ⅲ族...
    型號： Satur系列 所在地：北京市 參考價： 面議 更新時間：2024/9/6 9:32:47 對比

  • 紫外臭氧清洗機

    這款紫外臭氧清洗機，集成嵌入式控制系統(tǒng)，人性化設計，便捷高效，質量有保障，專業(yè)服務，是科研與實驗的理想伙伴。
    型號： UC100-SE 所在地：南京市 參考價： 面議 更新時間：2024/9/6 9:32:08 對比

  • 多功能刻蝕機

    GSE C200 多功能刻蝕機等離子體源設計，保證良好的刻蝕均勻性.GSE C200采用高密度等離子體源，刻蝕速率高、均勻性好、顆?？刂颇芰?、易維護、性能穩(wěn)定...
    型號： GSE C200 所在地：北京市 參考價： 面議 更新時間：2024/9/6 9:28:16 對比
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