| 產地類別 |
國產 |
應用領域 |
環(huán)保,化工,生物產業(yè),制藥,綜合 |
應用于對玻璃反應釜、金屬反應釜、生物反應器進行升降溫、恒溫控制，尤其適合在反應過程中有需熱、放熱過程控制。制冷加熱循環(huán)器-45℃～250℃工業(yè)生產使用
無錫冠亞冷熱一體機典型應用于：
高壓反應釜冷熱源動態(tài)恒溫控制、雙層玻璃反應釜冷熱源動態(tài)恒溫控制、
雙層反應釜冷熱源動態(tài)恒溫控制、微通道反應器冷熱源恒溫控制；
小型恒溫控制系統(tǒng)、蒸飽系統(tǒng)控溫、材料低溫高溫老化測試、
組合化學冷源熱源恒溫控制、半導體設備冷卻加熱、真空室制冷加熱恒溫控制
型號 | SUNDI-125 SUNDI-125W | SUNDI-135 SUNDI-135W | SUNDI-155 SUNDI-155W | SUNDI-175 SUNDI-175W | SUNDI-1A10 SUNDI-1A10W | SUNDI-1A15 SUNDI-1A15W |
介質溫度范圍 | -10℃～+200℃ |
控制系統(tǒng) | 前饋PID ,無模型自建樹算法，PLC控制器 |
溫控模式選擇 | 物料溫度控制與設備出口溫度控制模式 可自由選擇 |
溫差控制 | 設備出口溫度與反應物料溫度的溫差可控制、可設定 |
程序編輯 | 可編制5條程序，每條程序可編制40段步驟 |
通信協(xié)議 | MODBUS RTU 協(xié)議 RS 485接口 |
外接入溫度反饋 | PT100或4～20mA或通信給定（默認PT100) |
溫度反饋 | 設備導熱介質 溫度、出口溫度、反應器物料溫度（外接溫度傳感器）三點溫度 |
導熱介質溫控精度 | ±0.5℃ |
反應物料溫控精度 | ±1℃ |
加熱功率 kW | 2.5 | 3.5 | 5.5 | 7.5 | 10 | 15 |
制冷量 kW | 200℃ | 2.5 | 3.5 | 5.5 | 7.5 | 10 | 15 |
20℃ | 2.5 | 3.5 | 5.5 | 7.5 | 10 | 15 |
-5℃ | 1.5 | 2.1 | 3.3 | 4.2 | 6 | 9 |
流量壓力 max L/min bar | 20 | 35 | 35 | 50 | 50 | 75 |
2 | 2 | 2 | 2 | 2 | 2.5 |
壓縮機 | 海立 | 艾默生谷輪/丹佛斯渦旋壓縮機 |
膨脹閥 | 丹佛斯/艾默生熱力膨脹閥 |
蒸發(fā)器 | 丹佛斯/高力板式換熱器 |
操作面板 | 7英寸彩色觸摸屏，溫度曲線顯示、記錄 |
安全防護 | 具有自我診斷功能；冷凍機過載保護；高壓壓力開關，過載繼電器、熱保護裝置等多種安全保障功能。 |
密閉循環(huán)系統(tǒng) | 整個系統(tǒng)為全密閉系統(tǒng)，高溫時不會有油霧、低溫不吸收空氣中水份，系統(tǒng)在運行中不會因為高溫使壓力上升，低溫自動補充導熱介質。 |
制冷劑 | R-404A/R507C |
接口尺寸 | G1/2 | G3/4 | G3/4 | G1 | G1 | G1 |
水冷型 W 溫度 20度 | 600L/H 1.5bar~4bar G3/8 | 800L/H 1.5bar~4bar G1/2 | 1000L/H 1.5bar~4bar G3/4 | 1200L/H 1.5bar~4bar G3/4 | 1600L/H 1.5bar~4bar G3/4 | 2000L/H 1.5bar~4bar G3/4 |
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外型尺寸(水）cm | 45*65*120 | 50*85*130 | 50*85*130 | 55*100*175 | 55*100*175 | 70*100*175 |
外形尺寸 (風）cm | 45*65*120 | 50*85*130 | 55*100*175 | 55*100*175 | 70*100*175 | 70*100*175 |
隔爆尺寸(風) cm | 45*110*130 | 45*110*130 | 45*110*130 | 55*120*170 | 55*120*170 | 55*120*170 |
正壓防爆(水）cm | 110*95*195 | 110*95*195 | 110*95*195 | 110*95*195 | 110*95*195 | 120*110*195 |
常規(guī)重量kg | 115 | 165 | 185 | 235 | 280 | 300 |
電源 380V 50HZ | AC 220V 50HZ 3.6kW | 5.6kW | 7.5kW | 10kW | 13kW | 20kW |
選配風冷尺寸cm | / | 50*68*145 | 50*68*145 | 50*68*145 | / | / |
制冷加熱循環(huán)器-45℃～250℃工業(yè)生產使用
制冷加熱循環(huán)器-45℃～250℃工業(yè)生產使用
TCU加熱制冷裝置是制冷加熱于一體機的控溫系統(tǒng)，常與反應釜組合，提供需要的冷源和熱源，全密閉循環(huán)管路，根據(jù)工藝需求進行加熱或者制冷自動調節(jié)。廣泛的使用于制藥化工行業(yè)中，在反應釜需要高溫和低溫時，可以快速升降溫達到物料反應所需溫度。
反應釜TCU加熱制冷裝置安裝說明：
1、反應釜溫控系統(tǒng)應安裝在環(huán)境良好的實驗室內；
2、反應釜溫控系統(tǒng)應安裝在通風良好、無塵的穩(wěn)固地面或實驗臺面上，避免飛沫、多蒸氣及可能發(fā)生流入、流滯、泄漏氣體的地方，避免靠近可產生高頻設備的地方（高頻電焊機等）；
3、反應釜溫控系統(tǒng)在避免頻繁使用酸性溶液和頻繁使用特殊噴霧器（含硫化物等）的情況下，從維護和安裝時的方便和方面考慮，應盡量確保在室內機和障礙物之間有足夠的空間。
4、要注意維護及保養(yǎng)反應釜溫控系統(tǒng)，不要損壞機組；
5、機組應水平放置，及安裝在通風位置，防止摩擦過熱損壞機器；
6、反應釜溫控系統(tǒng)安裝簡單，操作簡單、不需要人員操作，只要對操作員作簡單培訓就可以操作，或看著說明書操作就可；
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