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一、需求背景介紹：

在光電技術(shù)研究和生產(chǎn)中，涉及頻繁的流體流量控制和計量工作，對準(zhǔn)確度和可靠性有較高要求。在測控測量儀器選擇上，光電企業(yè)或?qū)嶒炇視鶕?jù)工況和需求，提出更嚴(yán)謹(jǐn)和專業(yè)的品控要求。

近期，我們接到國內(nèi)某光電研究所的需求，需要定制雙閥壓力控制器。該研究所屬重點研究所，規(guī)模較大，研究方向和領(lǐng)域廣泛，在國內(nèi)光電研究上取得較高的成就，在光電研發(fā)和應(yīng)用方面具有重要的地位和影響力。

二、實際工況需求：

在光電相關(guān)作業(yè)中，涉及的目標(biāo)腔體由吸盤和光學(xué)元件組成。操作者向光學(xué)元件內(nèi)注入氣體氣壓，通過氣壓來影響光學(xué)元件形變。因光學(xué)元件薄壁厚度較薄，加之工況需求調(diào)整，研究所對氣壓的控制響應(yīng)時間，即穩(wěn)壓時間提出了較高要求。

既有的工況中，氣源經(jīng)過壓力控制器，直接進入目標(biāo)腔體，穩(wěn)壓時間（氣控時間）相對較長。

                                        圖：某光電研究所既有工況

該光電研究所提出以下需求：

1.縮短氣控時間，提高氣控精度；

2.在氣壓控制上，氣壓范圍要符合工況要求；

3.各項精度符合工況，精確控制薄壁形變；

4.可以提供及時到位的售后咨詢和服務(wù)。

三、解決方案：

基于該光電研究所提供的工況及細(xì)節(jié)，精量科技的技術(shù)負(fù)責(zé)人提供一套定制化的解決方案：

從氣源到目標(biāo)控壓腔體之間，除了雙閥壓力控制器外，分別增加一個2L的氣罐和一個電磁閥。

                                           圖：精量科技解決方案流程

具體過程和效果如下：

在初始狀態(tài)下，電磁閥處于關(guān)閉狀態(tài)。

先通過精量科技ACU20PCD雙閥壓力控制器，給下游的氣罐充氣至6KPa左右，等待預(yù)制大腔體壓力穩(wěn)定后，再將電磁閥打開，給目標(biāo)控壓腔體充氣。同時，雙閥控制器將壓力控制設(shè)定為5KPa，成功實現(xiàn)100ms內(nèi)將腔體壓力控制為5KPa。

                     圖：為某光電研究所提供的解決方案中使用的定制化雙閥壓力控制器

通過該方案，光電研究所利用我司的定制化解決方案，實現(xiàn)了最初的預(yù)想：

該光電研究所根據(jù)解決方案，先后分批次采購對應(yīng)的定制化雙閥壓力控制器，用于光電項目生產(chǎn)作業(yè)中。

如需溝通壓力控制方案，請與頁面的產(chǎn)品經(jīng)理聯(lián)系。