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去離子超純水設備
  • 去離子超純水設備

貨物所在地:上海上海

地: 書院鎮(zhèn)新欣東路27號15921850385

更新時間:2024-02-27 13:45:52

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去離子超純水設備是一般工藝很難達到的程度,采用預處理、反滲透技術、超純化處理以及后級處理四大步驟,多級過濾、離子交換單元、超濾過濾器、紫外燈、除τoC裝置、ED電除鹽裝置、拋光混床單元等多種處理方法,電阻率方可達18.25M“CM(25℃)。

去離子超純水設備是反滲透設備跟離子交換混床或EDI相結合配套使用,離子交換混床是通過離子交換樹脂在電解質溶液中進行的,可去除水中的各種陰、陽離子,是目前制取高純水工藝流程中不可替代的手段。離子交換器分為陽離子交換器、陰離子交換器等。 當原水通過離子交換柱時,水中的陽離子和水中的陰離子(HCO3-等離子)與交換柱中的陽樹脂的H+離子和陰樹脂的OH-離子進行交換,從而達到脫鹽的目的。陽、陰混柱的不同組合從而達到脫鹽的目的。陽、陰混柱的不同組合可使水質達到更高的要求。

去離子超純水設備的主要特點:

1.產(chǎn)水水質高而具有較佳的穩(wěn)定度高

2.連續(xù)不間斷制水,不因再生而停機。

3.模塊化生產(chǎn),并可實現(xiàn)全自動控制。

4.不須酸堿再生,無污水排放。

5.無酸堿再生設備和化學藥品儲運。

6.設備結構緊湊,占地面積小。

7.運行費用及維修成本低

8.運行操作簡單,勞動強度低

超純水系統(tǒng)進水要求

反滲透RO產(chǎn)水,電導率1-20μs/cm,較大允許電導率≤30μs/cm(NaCl)。

pH值: 7.5—9

溫度: 15℃--35℃

進水壓力(DIN):0.15—0.4MPa

濃水進水壓力(C ) 0 10 0 3MP IN): 0.10—0.3MPa

產(chǎn)水壓力(DOUT):0.05—0.25MPa

濃水出水壓力(COUT): 0.02—0.2MPa

進水硬度:<1.0ppm(以CaCO 計)(推薦0 5ppm以下)

進水有機物:TOC<0.5ppm

進水硅:SiO2<0.5ppm

進水總CO2:<3ppm

進水顆粒度:<1μm

1、給水:RO純水,一般水的電導率為4-30us/cm。

2、PH:5.0-8.0(在此PH條件下,水硬度不能太高)

3、溫度:5-35℃

4、進水壓力:較大為4kg/cm2(60psi),較小為1.5kg/cm2(25psi)。

應用領域:1、電解電容器生產(chǎn)鋁箔及工作件的清洗。

2、電子管生產(chǎn)、電子管陰極涂敷碳酸鹽配液。

3、顯像管和陰極射線管生產(chǎn)、配料用純水。

4、黑白顯像管熒光屏生產(chǎn)、玻殼清洗、沉淀、濕潤、洗膜、管徑清洗用純水。

5、液晶顯示器的生產(chǎn)、平面需用純水清洗及純水配液。

6、晶體管生產(chǎn)中主要用于清洗硅片,另有少量用于藥液配制。

7、集成電路生產(chǎn)中高純水清洗硅片、高品質顯像管、熒光粉生產(chǎn)。

8、半導體材料、器件、印刷電路板和集成電路。

9、LCD、LED液晶顯示屏、PDP等離子顯示屏。



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