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當(dāng)前位置:深圳市科時達(dá)電子科技有限公司>>鍍膜沉積機(jī)>> Ted Pella 108Auto 108鍍膜儀
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產(chǎn)品型號
品 牌
廠商性質(zhì)經(jīng)銷商
所 在 地深圳市
更新時間:2023-05-19 13:32:42瀏覽次數(shù):83次
聯(lián)系我時,請告知來自 化工儀器網(wǎng)Denton 等離子體增強(qiáng)型化學(xué)氣相沉積 PE-CVD
PECVD+RIE等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積和反應(yīng)
NLD-3500 (A) ,全自動原子層沉積系統(tǒng)
技術(shù)參數(shù):
l 自動的換氣與泄氣功能,可以得到一致的膜厚,和的導(dǎo)電噴鍍效果。
l 通過高效低壓直流磁控頭進(jìn)行冷態(tài)精細(xì)的噴鍍過程,避免樣品表面受損。
l 操作容易快捷,可全自動或手動進(jìn)行噴鍍操作,控制的參數(shù)包括自動放氣以及氬氣換氣控制。
l 在自動模式下,可通過兩種方式進(jìn)行控制鍍膜過程。可通過數(shù)字顯示器控制得到可重現(xiàn)的噴鍍效果,
l 數(shù)字化的噴鍍電流控制不受樣品室內(nèi)氬氣壓力影響,可得到一致的鍍膜速率和的鍍膜效果。
l 可使用多種金屬靶材:Au, Au/Pd,,Pt,,Pt/Pd(Au靶為標(biāo)配),靶材更換快速方便。
l 樣品室大?。?/span>直徑120mm x 120mm 高 (4.75 x 4.75")
l 樣品臺:可以裝載12個SEM樣品座,高度可調(diào)范圍為50mm
l 濺射控制:微處理器控制,安全互鎖,可調(diào),電流40mA,程序化數(shù)字控制
l 濺射頭:低電壓平面磁控管,靶材更換快速,環(huán)繞暗區(qū)護(hù)罩
l 模擬計量:真空: Atm - 0.001mbar,電流:0-50mA
l 控制方法: 自動氣體換氣和泄氣功能,自動處理排序,帶有“暫停"控制的數(shù)字定時器(5-300s),自動放氣.整個操作亦可全手動控制。
l 真空泵:,抽氣速率: 6.0 m3/小時 ,真空度到 0.1mb所需時間30秒.
l 桌上系統(tǒng): 真空泵可置于抗震臺上,全金屬集成耦合系統(tǒng)
l 保修期:免費(fèi)保修一年
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