五月婷网站,av先锋丝袜天堂,看全色黄大色大片免费久久怂,中国人免费观看的视频在线,亚洲国产日本,毛片96视频免费观看

您好, 歡迎來到化工儀器網(wǎng)

| 注冊| 產(chǎn)品展廳| 收藏該商鋪

15640436639

technology

首頁   >>   技術(shù)文章   >>   磁控濺射儀的儀器特點你了解多少

沈陽科晶自動化設(shè)備有限公...

立即詢價

您提交后，專屬客服將第一時間為您服務(wù)

磁控濺射儀的儀器特點你了解多少

閱讀：1591      發(fā)布時間：2024-7-1
分享：
　　磁控濺射儀(Magnetron Sputtering Instrument)是一種通過在靶陰極表面引入磁場，利用磁場對帶電粒子的約束來提高等離子體密度以增加濺射率的物理氣相沉積儀器。
 
　　磁控濺射技術(shù)隨著其核心裝備磁控濺射設(shè)備的不斷發(fā)展，已經(jīng)應(yīng)用于復(fù)合材料、電子元器件，金屬表面處理等領(lǐng)域。對于壓制硬度、提高耐磨性，增加電子元器件的性能等方面，都有著重要的應(yīng)用。
 
　　磁控反應(yīng)濺射。就是用金屬靶，加入氬氣和反應(yīng)氣體如氨氣或氧氣。當(dāng)金屬靶材撞向零件時由于能量轉(zhuǎn)化，與反應(yīng)氣體化合生成氮化物或氧化物。若磁鐵靜止，其場特性決定一般靶材利用率小于30%。為增大靶材利用率，可采用旋轉(zhuǎn)場。但旋轉(zhuǎn)磁場需要旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)，同時濺射速率要減小。冷卻水管。
 
　　儀器特點
 
　　1.沉積速度快、基材溫升低、對膜層的損傷?。?br /> 
　　2.對于大部分材料，只要能制成靶材，就可以實現(xiàn)濺射；不同的金屬、合金、氧化物能夠進(jìn)行混合，同時濺射于基材上；
 
　　3.濺射所獲得的薄膜與基片結(jié)合較好、純度高、致密性好、成膜均勻性好；
 
　　4.能夠準(zhǔn)確控制鍍層的厚度，同時可通過改變參數(shù)條件控制組成薄膜的顆粒大?。?br /> 
　　5.易于實現(xiàn)工業(yè)化；
 
　　6.濺射工藝可重復(fù)性好，可以在大面積基片上獲得厚度均勻的薄膜。
 
　　通過這些主要部件和組成，磁控濺射儀能夠?qū)崿F(xiàn)高效、準(zhǔn)確地在基底上沉積均勻致密的薄膜。該技術(shù)在光學(xué)涂層、導(dǎo)電薄膜、防腐蝕涂層等領(lǐng)域具有廣泛的應(yīng)用。

會員登錄

請輸入賬號

請輸入密碼

=

請輸驗證碼

收藏該商鋪

標(biāo)簽：
保存成功

(空格分隔,最多3個,單個標(biāo)簽最多10個字符)

常用：

提示

您的留言已提交成功！我們將在第一時間回復(fù)您~
在線留言