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更新時(shí)間:2024-12-09 21:00:07
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在線詢價(jià)收藏產(chǎn)品( 聯(lián)系我們,請(qǐng)說明是在 化工儀器網(wǎng) 上看到的信息,謝謝?。?/p>
C-Quand在線X射線熒光元素分析儀基于成熟的元素分析技術(shù)-EDXRF技術(shù),也即能量色散X射線熒光技術(shù)。該技術(shù)測(cè)量樣品中原子產(chǎn)生的特征X射線光譜,更重要的是,這種測(cè)量方法在整個(gè)測(cè)量過程中是連續(xù)的,而不是只對(duì)起始時(shí)間進(jìn)行瞬間測(cè)量。
不間斷在線測(cè)量提供及時(shí)信息,讓您可以輕松實(shí)現(xiàn)過程控制并優(yōu)化過程控制。C-Quand是為工業(yè)過程控制的特殊需求而設(shè)計(jì)的,它為針對(duì)產(chǎn)品環(huán)境的嚴(yán)謹(jǐn)系統(tǒng)提供快捷可靠的化學(xué)分析,C-Quand加上特殊應(yīng)用模塊可滿足各種工業(yè)現(xiàn)場(chǎng)的嚴(yán)格要求。
技術(shù)特點(diǎn):
使用EDXRF技術(shù),C-Quand可測(cè)量從硅(原子數(shù)14)到鈾(原子數(shù)92)之間的任何元素,濃度范圍從ppm到%,測(cè)量的濃度范圍和精度根據(jù)具體應(yīng)用而定。
長(zhǎng)期測(cè)量的穩(wěn)定性,通過內(nèi)標(biāo)消除檢測(cè)器和電子漂移
直接測(cè)量,無需高溫轉(zhuǎn)換
樣品池和第二個(gè)保護(hù)窗保護(hù)檢測(cè)器免受樣品污染
配置檢漏儀,如果遇到檢測(cè)窗破裂,可切斷安全閥門
檢測(cè)源是一個(gè)X射線管,意味著切換電源時(shí),將停止輻射
可選加熱測(cè)量池,可將粘度高達(dá)100cSt的高粘度樣品加熱至80℃
寬測(cè)量范圍,從ppm到%水平均可保證測(cè)量結(jié)果的準(zhǔn)確性
測(cè)量過程不受樣品密度和C/H比變化的影響
配合高敏感度、低噪聲的硅漂移探測(cè)器
連續(xù)JQ無損測(cè)量,保證工藝不受干擾
日常維護(hù)簡(jiǎn)單,定期清理測(cè)量池即可,測(cè)量池可拆卸,方便清潔
可選擇的信號(hào)輸出模式,4-20mA信號(hào),MODBUS TCP/IP或RS485
每臺(tái)儀器多可測(cè)15種元素,測(cè)量的兼容性好
自動(dòng)校正漂移,確保測(cè)量準(zhǔn)確性
應(yīng)用領(lǐng)域
XRF法是分析石油產(chǎn)品種總硫含量合適的方法,相比通過流動(dòng)注射或轉(zhuǎn)化法測(cè)二氧化硫和硫化氫得到硫含量的技術(shù)方法相比,當(dāng)檢測(cè)樣品的沸點(diǎn)超過450℃時(shí),不再適合總硫分析,應(yīng)用行業(yè)包括:
石油精煉工業(yè): 燃油和原油中總硫的測(cè)定、煉油催化劑中雜質(zhì)和微量金屬測(cè)定
化學(xué)工業(yè): 石化工藝中催化劑的測(cè)定
電鍍工業(yè): 測(cè)定電鍍槽中的金屬元素
污水處理: 測(cè)定污水中的痕量金屬元素
地質(zhì)學(xué): 稀土中元素分析、玉石元素成分分析
C-Quand在線X射線熒光元素分析儀技術(shù)參數(shù)
分析 | |
測(cè)量原理 | X射線能量色散技術(shù) 輻射源: X射線管,可定制特殊應(yīng)用探頭 |
元素范圍 | 硅(Si) 到鈾(U) (原子序數(shù)從14 到 92) |
測(cè)量范圍 | 濃度等級(jí)從 0.5 ppm 到% 等級(jí) (特殊應(yīng)用) |
元素種類 | 每臺(tái)儀器多可測(cè)量15種元素 |
精度 | 取決于具體應(yīng)用,從 ppm 到 % 等級(jí) 穩(wěn) 定性:通常優(yōu)于 0.5%(漂移自動(dòng)修正) |
標(biāo)樣校準(zhǔn) | 在測(cè)量范圍內(nèi)使用標(biāo)準(zhǔn)的校正方法。簡(jiǎn)單的實(shí)驗(yàn)室樣品校正和實(shí)驗(yàn)室采集 選項(xiàng)。為了得到更高的靈敏度,在測(cè)量輕元素 (Si, P, S, K, Ca, Cl)的時(shí)候, 建 議使用氮?dú)?/span>(N2)進(jìn)行吹掃。 |
中央處理和控制單元 | |
工業(yè)計(jì)算機(jī) | Windows嵌入式操作系統(tǒng)。 15" TFT LCD 液晶彩屏。完整的ASCII 鍵盤 。 多個(gè)屏幕(可選) |
模擬輸出 | 獨(dú)立的4–20 mA模擬輸出 |
通訊 | RS485 或 TCP/IP 的網(wǎng)絡(luò)通訊協(xié)議(MODBUS) |
環(huán)境溫度 | 5-40°C |
測(cè)量頭 | |
X射線探頭 | 硅漂移探測(cè)器,分辨率135eV,低噪聲 |
高壓電源 | 0-50kV |
測(cè)量源 | 15W X光射線管,銀制電極 |
采樣窗口 | Be鈹 |
穩(wěn)定性 | 自動(dòng)偏移校正,自動(dòng)反向散射峰校正,自動(dòng)環(huán)境壓力校正 |
現(xiàn)場(chǎng)使用條件要求 | |
電源 | 110-230VAC, 50/60 Hz |
功耗 | 100VA (高溫測(cè)量池150VA) |
儀表風(fēng) | 對(duì)于Exp型版本以及標(biāo)配氣動(dòng)閥(可選電動(dòng)閥)需要<2L/min的儀表風(fēng) |
樣品分析要求 | |
樣品流速 | 0.2-0.5 L/min |
樣品池溫度 | 大可達(dá)80°C |
樣品池壓力 | 標(biāo)準(zhǔn)大氣壓 |
粘度 | <100 cSt (采樣室溫度為80°C) |
污染物 | >10微米需濾除,消除自由水 |
(空格分隔,最多3個(gè),單個(gè)標(biāo)簽最多10個(gè)字符)