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行業(yè)產(chǎn)品

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[供應(yīng)]YES TA Series
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  • YES TA Series
貨物所在地:
上海上海市
更新時(shí)間:
2022-01-27 15:16:15
有效期:
2022年1月27日 -- 2023年1月27日
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產(chǎn)品簡(jiǎn)介

YES TA Series雙功能HMDS原色和圖像反轉(zhuǎn)烤箱將*的氣相沉積技術(shù)帶入研究實(shí)驗(yàn)室或?qū)W術(shù)環(huán)境。獲得穩(wěn)定的過(guò)程結(jié)果,同時(shí)大程度地減少成本高昂的有毒化學(xué)藥品的使用。

詳細(xì)介紹

YES TA系列真空固化/蒸氣底漆系統(tǒng)使用六甲基二硅氮烷(HMDS)提供快速,均勻,經(jīng)濟(jì)的底漆,以改善光刻膠的附著力。 這些多功能系統(tǒng)還支持圖像反轉(zhuǎn),以與正性抗蝕劑相同的分辨率和易用性形成負(fù)性圖像。
有效的光致抗蝕劑附著力構(gòu)成所有后續(xù)處理步驟的基礎(chǔ),并且只有*上底漆的表面才能準(zhǔn)確地復(fù)制亞微米CD,而不會(huì)出現(xiàn)底切或邊緣不整齊的情況。 TA系統(tǒng)的真空固化可*使基材脫水,從而使HMDS層具有出色的粘合力,即使暴露在大氣中數(shù)周后仍保持穩(wěn)定。

真空固化/蒸汽灌注與濕灌注:
•化學(xué)沉積的均勻性
YES TA Series接觸角在±3度以?xún)?nèi)
•防潮表面改性
•流程步驟之間的可用時(shí)間增加
•增強(qiáng)的光刻膠附著力
•與濕底漆相比,化學(xué)消耗量和化學(xué)成本更低
除了硅晶片處理之外,TA系列還可以用于砷化鎵,鈮酸鋰和其他奇特材料的低溫HMDS底涂。
TA系列的優(yōu)點(diǎn):
•N 2預(yù)熱可防止箱體冷卻。
•過(guò)濾機(jī)制減少了顆粒物的引入。
•電涌抑制系統(tǒng)可在盒帶裝入期間限制湍流。
•*的控制系統(tǒng)提供用戶(hù)可選的溫度,處理時(shí)間和腔室尺寸。
YES TA Series在引入HMDS之前,為了安全起見(jiàn),四個(gè)真空循環(huán)清除了O 2。

技術(shù)參數(shù)

58TA 規(guī)格

硬件
潔凈室兼容性:10級(jí)
晶圓尺寸:大300mm
容量:12個(gè)100mm晶圓盒-8個(gè)125mm或150mm晶圓盒-2個(gè)200mm晶圓盒-1個(gè)300mm晶圓盒。圖像反轉(zhuǎn)過(guò)程通常將紙盒容量降低½。
批處理吞吐量:2次/小時(shí)真空烘烤/蒸汽灌注— 1次/小時(shí)圖像反轉(zhuǎn)
溫度:環(huán)境溫度180°C
內(nèi)部腔室尺寸:40.64 CM(寬)X 45.72 CM(D)X 40.64 CM(H)—(16” x 18” x 16”)
系統(tǒng)整體尺寸:73.5厘米(寬)x 62.56厘米(深)x 88.27厘米(高)—(28.94“ x 24.63” x 34.75“)
箱體材質(zhì):316L不銹鋼,鋁門(mén)板
工藝氣體輸入:1 N2排氣,1氨氣,1個(gè)蒸氣瓶
清潔度:每150 mm晶片<5 x 1微米顆粒
耗氮量:每個(gè)過(guò)程16 SCF
軟件
配方數(shù):8個(gè)工藝配方
曝光時(shí)間范圍:0-999999秒
定時(shí)器設(shè)定分辨率:1秒
性能
溫度均勻度:穩(wěn)定后±5°C
配件
電源要求:188-253VAC,50 / 60Hz,10 amps

310TA 規(guī)格

硬件
潔凈室相容性:Class 10
晶圓尺寸:大200mm
容量:8個(gè)100mm晶片盒– 2個(gè)125mm晶片盒– 2個(gè)150mm晶片盒– 1個(gè)200mm晶片盒。圖像反轉(zhuǎn)過(guò)程通常將其 容量減少½。
批處理吞吐量:2次/小時(shí)真空烘烤/蒸汽灌注— 1次/小時(shí)圖像反轉(zhuǎn)
溫度:環(huán)境溫度160°C
內(nèi)部腔室尺寸:30.48厘米(寬)x 33.66厘米(深)x 30.48厘米(高)—(12“ x 13.25” x 12“)
系統(tǒng)整體尺寸:63.195厘米(寬)x 50.17厘米(深)x 77.29厘米(高)—(24.88“ x 19.75” x 30.43“)
箱體材質(zhì):316L不銹鋼,鋁門(mén)板
工藝氣體輸入:1 N2排氣,1氨氣,1個(gè)蒸氣瓶
清潔度:每150 mm晶片<5 x 1微米顆粒
氮消耗量:每個(gè)過(guò)程7 SCF
軟件
配方數(shù):8個(gè)工藝配方
曝光時(shí)間范圍:0-999999秒
定時(shí)器設(shè)置分辨率:1秒
性能
溫度均勻度:穩(wěn)定后±5°C
配件
電源要求:188-253VAC,50 / 60Hz,10 amps

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