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Hitachi日立高新場(chǎng)發(fā)射掃描電鏡SU9000
日立高新超高分辨率場(chǎng)發(fā)射掃描電子顯微鏡SU9000是專門(mén)為電子束敏感樣品和需大300萬(wàn)倍穩(wěn)定觀察的*半導(dǎo)體器件，高分辨成像所設(shè)計(jì)。新的電子槍和電子光學(xué)設(shè)計(jì)提高了低加速電壓性能。
產(chǎn)品簡(jiǎn)介
詳細(xì)介紹
Hitachi日立高新場(chǎng)發(fā)射掃描電鏡SU9000
日立SU9000超高分辨冷場(chǎng)發(fā)射掃描電鏡，達(dá)到掃描電鏡二次電子分辨率0.4nm和STEM分辨率0.34nm。日立SU9000采取了全新改進(jìn)的真空系統(tǒng)和電子光學(xué)系統(tǒng)，不僅分辨率性能明顯提升，而且作為一款冷場(chǎng)發(fā)射掃描電鏡甚至不需要傳統(tǒng)意義上的Flashing操作，可以高效率的快速獲取樣品超高分辨掃描電鏡圖像。
日立高新超高分辨率場(chǎng)發(fā)射掃描電子顯微鏡SU9000是專門(mén)為電子束敏感樣品和需大300萬(wàn)倍穩(wěn)定觀察的*半導(dǎo)體器件，高分辨成像所設(shè)計(jì)。
新的電子槍和電子光學(xué)設(shè)計(jì)提高了低加速電壓性能。
0.4nm / 30kV（SE）
1.2nm / 1kV（SE）
0.34nm / 30kV（STEM）
用改良的高真空性能和的電子束穩(wěn)定性來(lái)實(shí)現(xiàn)高效率截面觀察。
Hitachi日立高新場(chǎng)發(fā)射掃描電鏡SU9000
采用全新設(shè)計(jì)的Super E x B能量過(guò)濾技術(shù)，高效，靈活地收集SE / BSE/ STEM信號(hào)。