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一、概述

SE-m是一款針對半導體行業(yè)定制的微區(qū)圖形結(jié)構(gòu)測量的專用型光譜橢偏儀，其采用行業(yè)較新橢偏創(chuàng)新技術(shù)，自主獨立研發(fā)出

1、超小微光斑探測測量技術(shù)

2、定制超快測量速度等技術(shù)。

可應用透明各類襯底上的減反膜、導電膜等薄膜的n/k/d測量，適用于微區(qū)圖形的各種光學參數(shù)解析。

二、特色功能

1、可定制光斑尺寸，最小可達30um；

2、超快測量，單次測量時間小于0.5秒 ；

3、系列配置靈活，支持功能定制設計；

4、光譜橢偏儀結(jié)構(gòu)緊湊，更適應在線集成測量。

三、測量實例

四、應用場景 

應用于光學常數(shù)測量，適用于各類光學薄膜等鍍膜檢測應用。