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真空工藝的應(yīng)用對環(huán)境有什么要求
真空工藝的應(yīng)用環(huán)境是建立低于大氣壓力的物理環(huán)境，真空工藝的使用領(lǐng)域眾多，不同真空工藝對環(huán)境的要求也不相同，
在真空工藝應(yīng)用中，真空設(shè)備需要滿足真空工藝各類參數(shù)需求。為了更好的實現(xiàn)這一需求，不僅對真空設(shè)備性能有要求，同時也需要環(huán)境能夠給設(shè)備提供良好的運作條件，保證設(shè)備穩(wěn)定運行，好環(huán)境才有好性能。
本文根據(jù)多年在真空行業(yè)服務(wù)的經(jīng)驗，為您分析真空工藝對環(huán)境的相關(guān)要求。
常規(guī)真空工藝對環(huán)境的要求
所謂常規(guī)真空工藝系指沒有特殊要求的真空工藝過程，這類真空裝置（設(shè)備）對真空衛(wèi)生的要求：
（1）凡是處于真空中的真空設(shè)備零件，都要求無積存的污染源，表面無塵埃，無鐵屑、無銹蝕；
（2 ）真空設(shè)備的真空室表面要光滑、無松軟組織和氣孔、無內(nèi)焊縫等影響真空的缺陷；
（3 ）高真空設(shè)備中，真空室內(nèi)的運動部件不得用機(jī)油作潤滑劑，要用飽和蒸氣壓低的擴(kuò)散泵油、硅油作潤滑劑；法蘭、觀察窗的密封部件要涂以高真空油脂；
（4）真空設(shè)備一般應(yīng)在溫度為15～30℃，相對濕度不高于70%的清潔空氣流通的環(huán)境中工作，冷卻水進(jìn)水溫度不高于25 ℃。
電真空工藝對環(huán)境的要求
電真空結(jié)構(gòu)材料除具有良好的機(jī)械性能和加工性能外，還要滿足其他性能的要求，即容易除氣、低的飽和蒸氣壓、一定的化學(xué)穩(wěn)定性、一定的純度和清潔度、合適的輻射能力等。所以電真空工藝具有特殊性，對清潔處理要求是極為嚴(yán)格的，應(yīng)大限度清除或減少零件的污染。
真空鍍膜工藝對環(huán)境的要求
真空鍍膜工藝襯底（基片）表面的清潔處理很重要，基片進(jìn)入鍍膜室前均應(yīng)進(jìn)行認(rèn)真的鍍前清潔處理，達(dá)到工件去油、去污和脫水的目的。基片表面污染來自零件在加工、傳輸、包裝過程所粘附的各種粉塵、拋光膏、油脂、汗?jié)n等物；零件表面在潮濕空氣中生成的氧化膜；零件表面吸收和吸附的氣體。這些污物基本上均可采用去油或化學(xué)清洗方法將其去掉。
無油超高真空系統(tǒng)要避免油蒸氣影響工作介質(zhì)的純度、表面特性或工作性能，為具體的工藝過程提供清潔的超高真空環(huán)境。
超高真空金屬系統(tǒng)常用1Cr18Ni9Ti為結(jié)構(gòu)材料；有些部位可能使用無氧銅、可伐合金、純金、純銀、鎢、鉭、鉬、鈦等。絕緣材料常用玻璃和95真空瓷；而高分子聚合物由于可能分解出碳?xì)浠衔镂廴鞠到y(tǒng)，不能使用；飽和蒸氣壓較高的材料，如鋅及其合金也不能使用。
超高真空系統(tǒng)中材料的出氣是限制真空度提高的重要因素。一方面可采用清洗、拋光、把零件部件放在真空柜中保存或真空預(yù)熱除氣等方法降低出氣速率，以改善材料的原始處理情況。另一方面還可以采用真空系統(tǒng)高溫烘烤除氣，加速材料出氣，使材料表面吸附和吸收的氣體分子加速放出并被排出，冷卻后材料的出氣速率會降低幾個數(shù)量級。因此，對于一般需要達(dá)到10-7Pa以下壓力的真空系統(tǒng)，都必須要烘烤除氣。