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2351-晶圓檢測(cè)儀
  • 2351-晶圓檢測(cè)儀

貨物所在地:廣東深圳市

地: 美國

更新時(shí)間:2024-11-16 21:00:07

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KLA-Tencor 2351 晶圓檢測(cè)儀是一種先進(jìn)的晶圓和掩模檢測(cè)系統(tǒng),廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體制造行業(yè)。該系統(tǒng)具備多種功能,包括高分辨率成像、自動(dòng)化分析以及專門的缺陷檢測(cè)和過程改進(jìn)設(shè)備。它利用激光掃描技術(shù)來檢測(cè)和分類半導(dǎo)體晶片上的缺陷,以提高產(chǎn)率,并提供全場(chǎng)自上而下的掃描、600倍或1000倍放大資產(chǎn)等高性能缺陷審查模型。

KLA-Tencor 2351 晶圓檢測(cè)儀

是一種先進(jìn)的晶圓和掩模檢測(cè)系統(tǒng),廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體制造行業(yè)。該系統(tǒng)具備多種功能,包括高分辨率成像、自動(dòng)化分析以及專門的缺陷檢測(cè)和過程改進(jìn)設(shè)備。它利用激光掃描技術(shù)來檢測(cè)和分類半導(dǎo)體晶片上的缺陷,以提高產(chǎn)率,并提供全場(chǎng)自上而下的掃描、600倍或1000倍放大資產(chǎn)等高性能缺陷審查模型

KLA-Tencor 2351 的主要特點(diǎn)包括:

  1. 高分辨率成像:該系統(tǒng)能夠進(jìn)行高精度的圖像采集,確保快速準(zhǔn)確地識(shí)別出微小的缺陷。

  2. 自動(dòng)化分析:通過專有的操作系統(tǒng)和高分辨率檢查攝像頭,可以快速準(zhǔn)確地分類缺陷。

  3. 快速掃描速度:支持快速掃描,適用于大規(guī)模生產(chǎn)環(huán)境。

  4. 詳細(xì)的分析報(bào)告:內(nèi)置報(bào)告功能使用戶能夠生成缺陷信息和實(shí)時(shí)數(shù)據(jù)的圖形報(bào)告

  5. 易用性:具有直觀的圖形用戶界面(GUI),允許用戶快速設(shè)置、配置和監(jiān)視設(shè)備的操作

此外,KLA-Tencor 2351 還具備以下優(yōu)勢(shì):

  • 提供全面的缺陷檢測(cè)能力,能夠檢測(cè)到尺寸小于一微米的缺陷。

  • 支持200mm晶圓尺寸,并在2001年對(duì)前一代產(chǎn)品2350進(jìn)行了升級(jí),增強(qiáng)了靈敏度、吞吐量和易用性。

  • 配備了DIC成像技術(shù)和可編程圖案識(shí)別算法,進(jìn)一步提升了檢測(cè)精度和效率。

KLA-Tencor 2351 是一款功能強(qiáng)大且高效的晶圓和掩模檢測(cè)系統(tǒng),廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體制造領(lǐng)域,幫助提高產(chǎn)品質(zhì)量和生產(chǎn)效率。

系統(tǒng)概述

用于半導(dǎo)體行業(yè)

高性能、經(jīng)濟(jì)高效的工具

提供詳細(xì)圖像和測(cè)量

主要功能

檢測(cè)、分類和量化缺陷

快速準(zhǔn)確地獲取和分析數(shù)據(jù)

支持DIC成像、可編程圖案識(shí)別算法

技術(shù)特點(diǎn)

高分辨率成像技術(shù)

一微米級(jí)別的缺陷檢測(cè)能力

自動(dòng)化晶圓和掩模檢查系統(tǒng)

應(yīng)用領(lǐng)域

半導(dǎo)體制造過程控制

晶圓檢測(cè)與質(zhì)量保證

設(shè)備規(guī)格與升級(jí)

支持200mm晶圓大小

2003年升級(jí)至2350版本,增強(qiáng)靈敏度、吞吐量和易用性



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