涂鍍層測(cè)厚儀 參考價(jià):面議
涂鍍層測(cè)厚儀X射線(xiàn)和紫外線(xiàn)與紅外線(xiàn)一樣是一種電磁波。X射線(xiàn)的能量穿過(guò)金屬鍍層的同時(shí),金屬元素其電子會(huì)反射其穩(wěn)定的能量波譜。通過(guò)這樣的原理,我們?cè)O(shè)計(jì)出:膜厚測(cè)試儀...涂鍍層厚度測(cè)量?jī)x 參考價(jià):面議
涂鍍層厚度測(cè)量?jī)xX射線(xiàn)和紫外線(xiàn)與紅外線(xiàn)一樣是一種電磁波。X射線(xiàn)的能量穿過(guò)金屬鍍層的同時(shí),金屬元素其電子會(huì)反射其穩(wěn)定的能量波譜。通過(guò)這樣的原理,我們?cè)O(shè)計(jì)出:膜厚測(cè)...無(wú)損無(wú)接觸測(cè)量厚度測(cè)量?jī)x 參考價(jià):面議
無(wú)損無(wú)接觸測(cè)量厚度測(cè)量?jī)x我們的產(chǎn)品是利用熒光X射線(xiàn)得到物質(zhì)中的元素信息(組成和鍍層厚度)的螢光X射線(xiàn)法原理。和熒光X射線(xiàn)分析裝置一樣被使用的X射線(xiàn)衍射裝置是利用...單層/多層厚度測(cè)量?jī)x 參考價(jià):面議
單層/多層厚度測(cè)量?jī)x我們的產(chǎn)品是利用熒光X射線(xiàn)得到物質(zhì)中的元素信息(組成和鍍層厚度)的螢光X射線(xiàn)法原理。和熒光X射線(xiàn)分析裝置一樣被使用的X射線(xiàn)衍射裝置是利用散亂...光學(xué)無(wú)接觸膜厚厚度測(cè)量?jī)x 參考價(jià):面議
光學(xué)無(wú)接觸膜厚厚度測(cè)量?jī)x我們的產(chǎn)品是利用熒光X射線(xiàn)得到物質(zhì)中的元素信息(組成和鍍層厚度)的螢光X射線(xiàn)法原理。和熒光X射線(xiàn)分析裝置一樣被使用的X射線(xiàn)衍射裝置是利用...厚度精準(zhǔn)定位小點(diǎn)測(cè)量膜厚儀 參考價(jià):面議
厚度精準(zhǔn)定位小點(diǎn)測(cè)量膜厚儀我們的產(chǎn)品是利用熒光X射線(xiàn)得到物質(zhì)中的元素信息(組成和鍍層厚度)的螢光X射線(xiàn)法原理。和熒光X射線(xiàn)分析裝置一樣被使用的X射線(xiàn)衍射裝置是利...微小區(qū)域薄膜厚度測(cè)量?jī)x 參考價(jià):面議
微小區(qū)域薄膜厚度測(cè)量?jī)x我們的產(chǎn)品是利用熒光X射線(xiàn)得到物質(zhì)中的元素信息(組成和鍍層厚度)的螢光X射線(xiàn)法原理。和熒光X射線(xiàn)分析裝置一樣被使用的X射線(xiàn)衍射裝置是利用散...臺(tái)式膜厚測(cè)量?jī)x 參考價(jià):面議
臺(tái)式膜厚測(cè)量?jī)x我們的產(chǎn)品是利用熒光X射線(xiàn)得到物質(zhì)中的元素信息(組成和鍍層厚度)的螢光X射線(xiàn)法原理。和熒光X射線(xiàn)分析裝置一樣被使用的X射線(xiàn)衍射裝置是利用散亂X射線(xiàn)...高性?xún)r(jià)比膜厚測(cè)量?jī)x 參考價(jià):面議
高性?xún)r(jià)比膜厚測(cè)量?jī)x我們的產(chǎn)品是利用熒光X射線(xiàn)得到物質(zhì)中的元素信息(組成和鍍層厚度)的螢光X射線(xiàn)法原理。和熒光X射線(xiàn)分析裝置一樣被使用的X射線(xiàn)衍射裝置是利用散亂X...XRF測(cè)厚儀 電鍍層鍍層膜厚儀 參考價(jià):面議
XRF測(cè)厚儀 電鍍層鍍層膜厚儀我們的產(chǎn)品是利用熒光X射線(xiàn)得到物質(zhì)中的元素信息(組成和鍍層厚度)的螢光X射線(xiàn)法原理。和熒光X射線(xiàn)分析裝置一樣被使用的X射線(xiàn)衍射裝置...X-RAY測(cè)厚儀 電鍍層鍍層膜厚儀 參考價(jià):面議
X-RAY測(cè)厚儀 電鍍層鍍層膜厚儀高性?xún)r(jià)比上照式光譜測(cè)厚儀,對(duì)各類(lèi)鍍層厚度分析的同時(shí)可對(duì)電鍍液進(jìn)行分析,適用于各種超大件、異形凹槽件、密集型多點(diǎn)測(cè)試或自動(dòng)逐個(gè)檢...鍍層膜厚儀 參考價(jià):面議
鍍層膜厚儀高性?xún)r(jià)比上照式光譜測(cè)厚儀,對(duì)各類(lèi)鍍層厚度分析的同時(shí)可對(duì)電鍍液進(jìn)行分析,適用于各種超大件、異形凹槽件、密集型多點(diǎn)測(cè)試或自動(dòng)逐個(gè)檢測(cè)大量的小部件。測(cè)量鍍層厚度儀器設(shè)備 參考價(jià):面議
測(cè)量鍍層厚度儀器設(shè)備高性?xún)r(jià)比上照式光譜測(cè)厚儀,對(duì)各類(lèi)鍍層厚度分析的同時(shí)可對(duì)電鍍液進(jìn)行分析,適用于各種超大件、異形凹槽件、密集型多點(diǎn)測(cè)試或自動(dòng)逐個(gè)檢測(cè)大量的小部件...鍍鎳測(cè)厚儀 參考價(jià):面議
PCB電路板鍍金厚度檢測(cè)儀高性?xún)r(jià)比上照式光譜測(cè)厚儀,對(duì)各類(lèi)鍍層厚度分析的同時(shí)可對(duì)電鍍液進(jìn)行分析,適用于各種超大件、異形凹槽件、密集型多點(diǎn)測(cè)試或自動(dòng)逐個(gè)檢測(cè)大量的...鍍金測(cè)厚儀 參考價(jià):面議
XTU-4C專(zhuān)業(yè)性能型膜厚儀下照式微聚焦多準(zhǔn)型,搭載*EFP算法軟件和微光聚集技術(shù),配合切換準(zhǔn)直器在檢測(cè)各微小及凹凸面樣品時(shí)檢出限更低,儀器壽命更長(zhǎng),性能更穩(wěn)定...金屬鍍層測(cè)厚儀 參考價(jià):面議
XTU-4C專(zhuān)業(yè)性能型膜厚儀下照式微聚焦多準(zhǔn)型,搭載*EFP算法軟件和微光聚集技術(shù),配合切換準(zhǔn)直器在檢測(cè)各微小及凹凸面樣品時(shí)檢出限更低,儀器壽命更長(zhǎng),性能更穩(wěn)定...天瑞電鍍金屬厚鍍分析 參考價(jià):面議
XTU-4C專(zhuān)業(yè)性能型膜厚儀下照式微聚焦多準(zhǔn)型,搭載*EFP算法軟件和微光聚集技術(shù),配合切換準(zhǔn)直器在檢測(cè)各微小及凹凸面樣品時(shí)檢出限更低,儀器壽命更長(zhǎng),性能更穩(wěn)定...X射線(xiàn)鍍層厚度分析儀 參考價(jià):面議
XTU-4C專(zhuān)業(yè)性能型膜厚儀下照式微聚焦多準(zhǔn)型,搭載*EFP算法軟件和微光聚集技術(shù),配合切換準(zhǔn)直器在檢測(cè)各微小及凹凸面樣品時(shí)檢出限更低,儀器壽命更長(zhǎng),性能更穩(wěn)定...x射線(xiàn)電鍍測(cè)厚儀 參考價(jià):面議
PCB電路板鍍金厚度檢測(cè)儀高性?xún)r(jià)比上照式光譜測(cè)厚儀,對(duì)各類(lèi)鍍層厚度分析的同時(shí)可對(duì)電鍍液進(jìn)行分析,適用于各種超大件、異形凹槽件、密集型多點(diǎn)測(cè)試或自動(dòng)逐個(gè)檢測(cè)大量的...上海X射線(xiàn)鍍層測(cè)厚儀 參考價(jià):面議
PCB電路板鍍金厚度檢測(cè)儀高性?xún)r(jià)比上照式光譜測(cè)厚儀,對(duì)各類(lèi)鍍層厚度分析的同時(shí)可對(duì)電鍍液進(jìn)行分析,適用于各種超大件、異形凹槽件、密集型多點(diǎn)測(cè)試或自動(dòng)逐個(gè)檢測(cè)大量的...金屬鍍層測(cè)厚儀廠(chǎng)家 參考價(jià):160000
PCB電路板鍍金厚度檢測(cè)儀高性?xún)r(jià)比上照式光譜測(cè)厚儀,對(duì)各類(lèi)鍍層厚度分析的同時(shí)可對(duì)電鍍液進(jìn)行分析,適用于各種超大件、異形凹槽件、密集型多點(diǎn)測(cè)試或自動(dòng)逐個(gè)檢測(cè)大量的...供應(yīng)天瑞X射線(xiàn)鍍層測(cè)厚儀 參考價(jià):面議
PCB電路板鍍金厚度檢測(cè)儀高性?xún)r(jià)比上照式光譜測(cè)厚儀,對(duì)各類(lèi)鍍層厚度分析的同時(shí)可對(duì)電鍍液進(jìn)行分析,適用于各種超大件、異形凹槽件、密集型多點(diǎn)測(cè)試或自動(dòng)逐個(gè)檢測(cè)大量的...X射線(xiàn)測(cè)厚儀 參考價(jià):面議
PCB電路板鍍金層厚度檢測(cè)儀下照式微聚焦多準(zhǔn)型,搭載*EFP算法軟件和微光聚集技術(shù),配合切換準(zhǔn)直器在檢測(cè)各微小及凹凸面樣品時(shí)檢出限更低,儀器壽命更長(zhǎng),性能更穩(wěn)定...X射線(xiàn)熒光測(cè)厚儀 參考價(jià):面議
XTU-4C專(zhuān)業(yè)性能型膜厚儀下照式微聚焦多準(zhǔn)型,搭載*EFP算法軟件和微光聚集技術(shù),配合切換準(zhǔn)直器在檢測(cè)各微小及凹凸面樣品時(shí)檢出限更低,儀器壽命更長(zhǎng),性能更穩(wěn)定...(空格分隔,最多3個(gè),單個(gè)標(biāo)簽最多10個(gè)字符)