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爾莫新材料KDH-800真空電弧爐 非自耗電弧熔煉爐
1、采用高純氬氣保護(hù)，熔煉溫度可達(dá)3500℃2、真空腔體小，可快速抽真空，快速充氬氣3、水冷銅電極可移動，可同時熔煉多個樣品4、水冷銅坩堝可方便拆卸5、采用真空計(jì)測量真空，壓力傳感器和電磁閥保護(hù)爐內(nèi)壓力6、采用超溫保護(hù)和加裝濾光玻璃保護(hù)眼睛7、桌面式設(shè)計(jì)，占地空間小，特別節(jié)約實(shí)驗(yàn)空間和能源
產(chǎn)品簡介
詳細(xì)介紹
一、爾莫新材料KDH-800真空電弧爐 非自耗電弧熔煉爐設(shè)備用途 ：
用于熔煉高熔點(diǎn)金屬/合金，以及真空吸鑄法制備大塊非晶材料。適用于高校、科研院所進(jìn)行真空冶金新材料的科研與小批量制備。
二、爾莫新材料KDH-800真空電弧爐 非自耗電弧熔煉爐設(shè)備主要技術(shù)參數(shù)：
1、型號： KDH-800
2、電弧熔煉室：立式圓筒型真空室
3、真空系統(tǒng)配置：飛越VRD-30直聯(lián)泵、TK-150擴(kuò)散泵、氣動擋板閥和各種管路
4、冷態(tài)極限真空度 ≤6.67x10E-3Pa
5、熔煉電流：額定電流800a
6、熔煉坩堝 有三個工位：一個熔煉合金工位 50-70g 帶磁攪拌，一個吸鑄工位30-100g 一個異型長條工位
7、熔煉樣品重量 (以鐵標(biāo)定) 50-120克
8、真空吸鑄裝置 提供標(biāo)準(zhǔn)吸鑄模具1套
9、電弧熔煉陰極裝置：引弧方式為高頻引弧