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壓印機(jī).-UV納米壓印機(jī)
  • 壓印機(jī).-UV納米壓印機(jī)

貨物所在地:上海上海市

地: 國(guó)外

更新時(shí)間:2024-09-03 11:20:29

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納米壓印技術(shù)是上世紀(jì)90年代Stephen Y Chou,針對(duì)傳統(tǒng)光刻受波長(zhǎng)限制提出的類似于模板刻印的一種技術(shù)。它的原理是:將具有納米結(jié)構(gòu)的模板通過(guò)一定壓力,壓入加熱的熔融的高分子薄膜內(nèi),待高分子材料冷卻,納米結(jié)構(gòu)定型,移去模板,然后再通過(guò)等離子體刻蝕等傳統(tǒng)的微電子加工手段把結(jié)構(gòu)轉(zhuǎn)移到基底上。UV納米壓印機(jī)

UV納米壓印機(jī)

納米壓印技術(shù)是上世紀(jì)90年代Stephen Y Chou,針對(duì)傳統(tǒng)光刻受波長(zhǎng)限制提出的類似于模板刻印的一種技術(shù)。它的原理是:將具有納米結(jié)構(gòu)的模板通過(guò)一定壓力,壓入加熱的熔融的高分子薄膜內(nèi),待高分子材料冷卻,納米結(jié)構(gòu)定型,移去模板,然后再通過(guò)等離子體刻蝕等傳統(tǒng)的微電子加工手段把結(jié)構(gòu)轉(zhuǎn)移到基底上。 過(guò)程如下圖所示:

由于熱壓印需要采用較高壓力,容易損壞模板,不利于模板多次使用,并且由于材料和襯底熱系數(shù)并不相同,容易造成納米結(jié)構(gòu)缺陷,于是G.G.Willson 提出了紫外固化壓印。該設(shè)備主要原理是:使用低粘度,流動(dòng)性好的聚合物滴到基板上,利用液體*的毛細(xì)現(xiàn)象,使光刻膠充滿模板,然后通過(guò)紫外光照射使其固化,然后脫模,刻蝕。過(guò)程如下圖所示

到目前為止壓印技術(shù)已經(jīng)發(fā)展出來(lái)多種類型,典型的包括熱塑壓印技術(shù)、紫外固化壓印、微接觸納米壓印、激光輔助納米壓印和滾軸式納米壓印技術(shù)等。

為了滿足市場(chǎng)日益增長(zhǎng)對(duì)納米壓印的需求,上海昊量推出了UV納米壓印機(jī)。

該設(shè)備是基于紫外固化的納米壓印機(jī),可提供2英寸;4英寸和6英寸不等的壓印尺寸。分辨率可做到由于10nm,并且擁有99%產(chǎn)率。

該設(shè)備的*之處是已獲得的自動(dòng)脫模技術(shù)。該設(shè)備可以通過(guò)軟件調(diào)節(jié)納米壓印腔體內(nèi)外的壓力,是模板從襯底上自動(dòng)脫模。并且可避免分離過(guò)程中造成基底和模板的損壞。

該產(chǎn)品擁有以下優(yōu)勢(shì):

l  分辨率優(yōu)于10μm,產(chǎn)率優(yōu)于99%

l  同時(shí)適用于軟模和剛性模板

l  自動(dòng)脫模,防止模板和基板損壞

l  可壓印不同尺寸的模板和基片,方便靈活

l  可編程的PLC觸屏界面

l  對(duì)準(zhǔn)選項(xiàng)

 

應(yīng)用實(shí)例:

產(chǎn)品參數(shù):

 

AUV-200

AUV-400

AUV-600

Substrate   size

2 inch standard

4 inch standard

6 inch standard

Imprint   area

Same as   wafer size

Imprint   pressure

1 psi standard

UV   exposure time

2-3 min   at 95% intensity level

 

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