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產品簡介
詳細介紹
CVD-1200系統由開啟式單（雙）溫區(qū)管式爐、高真空分子泵系統、壓強控制儀及多通道高精度數字質量流量控制系統組成。可實現真空達0.001Pa混合氣體化學氣相沉積和擴散試驗。 | ||
CVD-1200系統主要功能和特點： 1、高真空系統由雙級旋片真空泵和分子泵組成，zui高真空可達0.0001Pa； 2、可配合壓強控制儀控制氣體壓力實現負壓的精準控制； 3、數字質量流量控制系統是由多路質量流量計，流量顯示儀等組成，實現氣體的流量的精密測量和控制；每條氣體管路均配備高壓逆止閥，保證系統的安全性和連續(xù)均勻性。 4、采用KF快速法蘭密封，裝卸方便快捷；管路采用世界*Swagelok卡套連接，不漏氣； 5、超溫、過壓時，自動切斷加熱電源及流量計進氣，使用安全可靠。 | ||
CVD-1200系統主要用途： 高校、科研院所、工礦企業(yè)做高溫氣氛燒結、氣氛還原、CVD/CVI實驗，特別適用于真空鍍膜、納米薄膜材料制備、納米線生長、電池材料干燥燒結等場所。 | ||
CVD-1200系統主要技術參數： | ||
SKGL-1200 | 控溫方式 | 采用人工智能調節(jié)技術，具有PID調節(jié)、自整定功能，并可編制30段升降溫程序。 |
加熱元件 | 0Cr27Al7Mo2 | |
工作電源 | AC220V 50HZ/60HZ | |
額定功率 | 4KW | |
爐管尺寸 | Φ60/Φ80/Φ100*1000mm | |
工作溫度 | ≤1150℃ | |
zui高溫度 | 1200℃ | |
恒溫精度 | ±1℃ | |
加熱區(qū)長度 | 440mm或220mm/220mm | |
升溫速度 | ≤20℃/min | |
密封方式 | 不銹鋼快速法蘭擠壓密封 | |
ZK-F | 真空范圍 | 0.1-0.001Pa |
極限真空 | 4.0*10^-4Pa | |
產品配置 | 雙級旋片真空泵+分子泵 | |
測量方式 | 復合真空計 | |
真空規(guī)管 | 電阻規(guī)+電離規(guī) | |
冷卻方式 | 風冷 | |
工作電源 | AC220V 50/60HZ | |
抽速 | 110L/S | |
ZDFC-Ⅲ | 測量范圍 | 5～1*10^-5 Pa |
穩(wěn)壓(真空)范圍 | 1～5*10^-3Pa | |
壓力(真空)穩(wěn)定精度） | ±3% | |
控制范圍 | 2.5*10^3～1*10^-4 Pa | |
控制精度 | ± 1% | |
HQZ-Ⅲ | 控制方式 | D07-7K質量流量計,D08流量顯示儀 |
流量規(guī)格 | 0－500SCCM /0－1SLM,（可根據客戶需要配置） | |
線性 | ±1%F.S | |
準確度 | ±1%F.S | |
重復精度 | ±0.2%F.S. | |
響應時間 | ≤2sec | |
耐壓 | 3MPa | |
氣路通道 | 3通道（根據客戶需求） | |
針閥 | 316不銹鋼 | |
管道 | Φ6mm不銹鋼管 | |
接口 | SwagelokΦ6mm | |