Si+SiO2+Pt+Si3N4+AlN+GaN+Si3N4+Ta薄膜
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Si+SiO2+Pt+Si3N4+AlN+GaN+Si3N4+Ta薄膜
產(chǎn)品名稱： | Si+SiO2+Si3N4薄膜 |
常規(guī)尺寸： | dia 50.8±0.5 mm x 0.250 ±0.025 mm |
備注： | 可按照客戶要求鍍膜50-1000nm； |
標(biāo)準(zhǔn)包裝： 參數(shù)： | 1000級凈室100級凈袋真空包裝或單片盒裝 |
薄膜厚度： | 雙面鍍300nmSiO250nmSi3N4 |
研究： | about 80 % useful area |
生長方法： | 在1000℃干氧法 |
射率： | - 1.455 |
Si參數(shù)： | <100>±0.5°；P型摻B ；R：0.01-0.1 ohm-cm， |
拋光： | 雙面拋光 |
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| Si+AlN+GaN薄膜 | |
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| Si+SiO2+Pt薄膜（料） | |
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| Si+SiO2+Ti+Pt <111>（） | 注：可以按照客戶要求加工 |
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| Si+SiO2+Si3N4薄膜 | |
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溫馨提示：用于科研哦！（zhn2020.05.19）
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