光學(xué)輪廓儀廠家
支持3D量測(cè)和成像功能，并提供整合隔離工作臺(tái)和晶圓盒到晶圓盒的晶圓傳送系統(tǒng)，可實(shí)現(xiàn)全自動(dòng)測(cè)量。該系統(tǒng)采用ZDot技術(shù)，可同時(shí)采集高分辨率3D數(shù)據(jù)和True Color（真彩）無(wú)限遠(yuǎn)焦點(diǎn)圖像。Zeta-388具備Multi-Mode（多模式）光學(xué)系統(tǒng)、簡(jiǎn)單易用的軟件、低擁有成本，以及SECS / GEM通信，適用于研發(fā)及生產(chǎn)環(huán)境。

Zeta-388 白光共聚焦

支持3D量測(cè)和成像功能，并提供整合隔離工作臺(tái)和晶圓盒到晶圓盒的晶圓傳送系統(tǒng)，可實(shí)現(xiàn)全自動(dòng)測(cè)量。該系統(tǒng)采用ZDot技術(shù)，可同時(shí)采集高分辨率3D數(shù)據(jù)和True Color（真彩）無(wú)限遠(yuǎn)焦點(diǎn)圖像。Zeta-388具備Multi-Mode（多模式）光學(xué)系統(tǒng)、簡(jiǎn)單易用的軟件、低擁有成本，以及SECS / GEM通信，適用于研發(fā)及生產(chǎn)環(huán)境。

光學(xué)輪廓儀廠家

產(chǎn)品描述

是一種非接觸式3D表面形貌測(cè)量系統(tǒng)。 Zeta-388繼承了Zeta-300的功能，并增加了晶圓盒至晶圓盒機(jī)械臂，可實(shí)現(xiàn)全自動(dòng)測(cè)量。該系統(tǒng)采用ZDot技術(shù)和Multi-Mode (多模式)光學(xué)系統(tǒng)，可以對(duì)各種不同的樣品進(jìn)行測(cè)量：透明和不透明、由低至高的反射率、由光滑至粗糙的紋理，以及納米至毫米級(jí)別的臺(tái)階高度。

Zeta-388的配置靈活并易于使用，并集合了六種不同的光學(xué)量測(cè)技術(shù)。ZDot測(cè)量模式可同時(shí)收集高分辨率3D掃描和True Color無(wú)限遠(yuǎn)焦距圖像。其他3D測(cè)量技術(shù)包括白光干涉測(cè)量、Nomarski干涉對(duì)比顯微鏡和剪切干涉測(cè)量。ZDot或集成寬帶反射計(jì)都可以對(duì)薄膜厚度進(jìn)行測(cè)量。Zeta-388也是一款顯微鏡，可用于樣品檢查或自動(dòng)缺陷檢測(cè)。Zeta-388通過(guò)提供的臺(tái)階高度、粗糙度和薄膜厚度的測(cè)量以及缺陷檢測(cè)功能，以及晶圓盒到晶圓盒的晶圓傳送，適用于研發(fā)及生產(chǎn)環(huán)境。

主要功能

·       采用ZDot和Multi-Mode（多模式）光學(xué)器件的簡(jiǎn)單易用的光學(xué)輪廓儀，具有廣泛的應(yīng)用

·       可用于樣品復(fù)檢或缺陷檢測(cè)的高質(zhì)量顯微鏡

·       ZDot：同時(shí)采集高分辨率3D數(shù)據(jù)和True Color（真彩）無(wú)限遠(yuǎn)焦點(diǎn)圖像

·       ZXI：白光干涉測(cè)量技術(shù)，適用于z向分辨率高的廣域測(cè)量

·       ZIC：干涉對(duì)比度，適用于亞納米級(jí)別粗糙度的表面并提供其3D定量數(shù)據(jù)

·       ZSI：剪切干涉測(cè)量技術(shù)提供z向高分辨率圖像

·       ZFT：使用集成寬帶反射計(jì)測(cè)量膜厚度和反射率

·       AOI：自動(dòng)光學(xué)檢測(cè)，并對(duì)樣品上的缺陷進(jìn)行量化

·       生產(chǎn)能力：通過(guò)測(cè)序和圖案識(shí)別實(shí)現(xiàn)全自動(dòng)測(cè)量

·       晶圓傳送機(jī)械臂: 自動(dòng)加載直徑為50mm至200mm的不透明（如硅）和透明（如藍(lán)寶石）樣品

主要應(yīng)用

·       臺(tái)階高度：納米到毫米級(jí)別的3D臺(tái)階高度

·       紋理：平滑到非常粗糙表面的粗糙度和波紋度

·       外形：3D翹曲和形狀

·       應(yīng)力：2D薄膜應(yīng)力

·       薄膜厚度：30nm到100μm透明薄膜厚度

·       缺陷檢測(cè)：捕獲大于1μm的缺陷

·       缺陷復(fù)檢：采用KLARF文件作為導(dǎo)航以測(cè)量缺陷的3D表面形貌或切割道缺陷位置

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