描電導率－塞貝克系數(shù)顯微鏡可以測量樣品的電導率和塞貝克系數(shù)的空間分布狀況，是研究熱電材料的利器。

主要技術參數(shù)

   測量結果重復性：    優(yōu)于3%
   誤差
   塞貝克系數(shù)：          < 3% (半導體)
                                < 5% (金屬)
   電導率：                < 5% (半導體)
                                < 8% (金屬)
   測量速度：            測量一個點的時間小于4秒

   電導率-塞貝克系數(shù)掃描探針顯微鏡技術由德國 Panco 公司和德國宇航中心公共研制開發(fā)，點擊資料下載按鈕下載說明手冊。

部分用戶名單：  
Beijing University of Technology
Corning Company
Korea Research Institute of Standards and Science
Shanghai Institute of Ceramics, CAS
Germany Air Force Research Lab

Simens Company 
Gwangju Institute of Science and Technology 
Hamburg University 
Munich University