專業(yè)電子束曝光系統(tǒng)

高性能電子束曝光機(jī)EBPG5200

自動(dòng)化高速度的高精度電子束曝光技術(shù)

EBPG5200是一款高性能的納米光刻系統(tǒng)，擁有完整200mm尺寸的光刻能力，這款電子束光刻系統(tǒng)代表了不斷進(jìn)化的高度成功和廣為市場(chǎng)接受的EBPG系列產(chǎn)品。它提供了不同用途的解決方案，包括納米尺度的電子束直寫和大學(xué)研究所，以及商業(yè)化的生產(chǎn)力中心研發(fā)用的掩膜版制作。

同時(shí)，系列產(chǎn)品還包括新的EBPG5150電子束直寫系統(tǒng)，使用了相同的平臺(tái)設(shè)計(jì)，是一款155mm*155mm尺寸平臺(tái)的系統(tǒng)。

Improved Specifications

• Ultra-fast, low-noise pattern generator 125 MHz
• Extreme beam current up to 350 nA
• Excellent direct write performance with overlay accuracy of ≤ 5nm

• 高束流密度，熱場(chǎng)發(fā)射電子槍可以在20、50和100kV之間切換
• 200mm的平臺(tái)可以曝光完整8英寸的硅片或者7英寸的掩膜版
• 小曝光特征尺寸小于8nm
• 高速度曝光，可采用50或100MHz的圖形發(fā)生器
• 在所有KVs加速電壓下，可連續(xù)改變的寫場(chǎng)大小，大可以到1mm
• GUI人機(jī)交互界面友好，簡(jiǎn)潔易用，適用于多用戶環(huán)境
• 多項(xiàng)靈活可選擇的配置，可以適用于不同應(yīng)用的需求

模塊化的系統(tǒng)架構(gòu)

模塊化的系統(tǒng)架構(gòu)設(shè)計(jì)，可以讓用戶根據(jù)需要選擇配置，可以在將來(lái)技術(shù)升級(jí)的時(shí)候，保護(hù)用戶的初始投資，提供不同類型的升級(jí)策略。

電子束曝光系統(tǒng)EBPG5200 應(yīng)用

• 圓光柵諧振腔

• 6nm分辨率（100KV，HSQ）

• 垂直諧振隧道晶體管
• 化合物半導(dǎo)體應(yīng)用

• 5nm密集線條

電子束曝光系統(tǒng)EBPG5200 產(chǎn)品詳情