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中級(jí)會(huì)員 | 第7年

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Activator150-SiC和GaN退火及石墨烯生長(zhǎng)-快速退火爐
  • Activator150-SiC和GaN退火及石墨烯生長(zhǎng)-快速退火爐

貨物所在地:北京北京市

更新時(shí)間:2024-10-15 21:00:07

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( 聯(lián)系我們,請(qǐng)說(shuō)明是在 化工儀器網(wǎng) 上看到的信息,謝謝?。?/p>

centrotherm Activator 150 高溫爐生產(chǎn)線專(zhuān)為硅-碳化合物(SiC)或鎵-氮化合物(GaN) 設(shè)備的后植入燒結(jié)而設(shè)計(jì)開(kāi)發(fā)。Activator 150 可用于多種類(lèi)型爐體, 如研發(fā)爐和批量生產(chǎn)爐, 且處理靈活性高。

Centrotherm 小批暈生產(chǎn)用垂直爐管CLV200,科研專(zhuān)屬

CLV200 小批暈生產(chǎn)用垂直爐管

I 適用于砫襯底的半導(dǎo)體集成電路的生產(chǎn)

 

是一個(gè)獨(dú)立的小批量晶圓 生產(chǎn)設(shè)備,能實(shí)現(xiàn)各項(xiàng)熱處理工藝,適用于少量生產(chǎn)及 研發(fā)。

工藝反應(yīng) 腔體及加熱系統(tǒng)有著*的設(shè)計(jì), 升溫至 11 00 攝氏度。由于一爐尺寸較?。ㄒ慌炼?50 片晶圓), CLV 200 爐管能提供 非常靈活的常壓及低壓工藝,降低顧客研發(fā)費(fèi)用。

的設(shè)計(jì)在高效, 低耗上非常出色, 同時(shí)也具備了生產(chǎn)各種半導(dǎo)體器件的工藝靈活性。

E1200臥式熱反應(yīng)系統(tǒng)

  • 產(chǎn)品簡(jiǎn)介

E1200型臥式熱反應(yīng)系統(tǒng)是由德國(guó)centrotherm公司研制的特為研發(fā)、小批量生產(chǎn)用熱反應(yīng)系統(tǒng)。具有小體積、高工藝性能等特點(diǎn)

可用作常壓CVD、LPCVD、PECVD、擴(kuò)散、氧化、退火等工藝過(guò)程,以優(yōu)良的品質(zhì)、極小的體積、低成本的特點(diǎn),特別適合低產(chǎn)量、多工藝適應(yīng)性加工要求的研發(fā)或小批量生產(chǎn)。

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