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Cameca推出Eikos-UV™用于研究和工業(yè)的工作馬原子探針顯微鏡
美國威斯康星州麥迪遜——科學(xué)儀器和計量解決方案的實踐者阿美特克·卡麥卡很高興地宣布發(fā)布新的原子探針顯微鏡Eikos-UV。Eikos-UV是一種工作馬原子探針顯微鏡，使用方便，擁有成本低。它利用標準的顯微鏡樣品制備方法，提供納米級的結(jié)構(gòu)信息，使人們對用于研究的材料有了新的認識，并加快了工業(yè)應(yīng)用產(chǎn)品的開發(fā)。
“Cameca非常自豪地介紹了Eikos-UV，”Cameca業(yè)務(wù)部門經(jīng)理JesseOlson博士說。“我們相信，在電壓脈沖模式和紫外激光脈沖模式下，Eikos-UV將使許多新的顯微鏡、研究人員和工程師能夠接觸到原子探針層析成像技術(shù)，使他們能夠在原子水平上對材料進行成像。”
奧爾森繼續(xù)說：“Cameca在原子探針層析成像儀器和應(yīng)用開發(fā)方面取得了30多年的成功，提供了新的Eikos-UV平臺，我們旨在大限度地利用該平臺開發(fā)商業(yè)合金和大學(xué)一級的基礎(chǔ)研究。Eikos-UV的設(shè)計、布局和足跡為現(xiàn)場要求提供了靈活性，同時由于兩大儀器創(chuàng)新，高可靠性和易用性成為可能：一個集成的預(yù)對準電極，消除了現(xiàn)場對準的需要，一個新的355nm激光器R脈沖系統(tǒng)。”
Eikos-UV可處理各種應(yīng)用，包括金屬、半導(dǎo)體、功能材料、礦物、核結(jié)構(gòu)材料、薄膜和涂層。它的標準樣品制備方法和成熟的數(shù)據(jù)分析程序使其成為納米材料研究和工業(yè)材料開發(fā)的一個經(jīng)濟有效的工作平臺，并且是Cameca原子探針斷層掃描產(chǎn)品線的一個有價值的補充。
Eikos-UV有兩種配置。個是基礎(chǔ)Eikos系統(tǒng)，它結(jié)合了反射光譜儀的設(shè)計，為電壓脈沖系統(tǒng)提供出色的質(zhì)量分辨率和信噪比，以確保在各種冶金應(yīng)用中具有*的數(shù)據(jù)質(zhì)量。第二個是*配置的Eikos-UV系統(tǒng)，它增加了一個集成的、自動的激光脈沖模塊，采用計算機控制的焦點設(shè)計，以提供更大的應(yīng)用范圍和更高的信噪比?；A(chǔ)Eikos系統(tǒng)可現(xiàn)場升級至Eikos-UV。
原子探針層析成像(APT或3dampt)是一種能在原子尺度上同時進行三維空間成像和化學(xué)成分測量的材料分析技術(shù)。自20世紀60年代發(fā)展以來，該技術(shù)為材料科學(xué)的重大進步做出了貢獻。原子探針顯微鏡是由Cameca自己開發(fā)和制造的，被世界各地的研究和開發(fā)實驗室使用。
Cameca Atom Probe體層攝影產(chǎn)品線現(xiàn)在包括兩個系列：Leap 5000(局部電極原子探針)，它提供了快、靈敏的3D成像和分析，在廣泛的應(yīng)用范圍(金屬、氧化物、陶瓷、*儲能器)內(nèi)具有納米級分辨率。GE材料、半導(dǎo)體和電子、生物礦物和地球化學(xué));以及樶新推出的Eikos-UV系列，它提供了原子探針層析成像的可訪問性，提高了易用性，并降低了學(xué)術(shù)和工業(yè)應(yīng)用的擁有成本。
關(guān)于Cameca
Cameca®在材料微觀和納米分析科學(xué)儀器的設(shè)計、制造和服務(wù)方面擁有60多年的經(jīng)驗。自20世紀50年代電子探針微分析(EPMA)儀器和20世紀60年代二次離子質(zhì)譜(SIMS)以來，Cameca一直是*的者，同時在低能電子誘導(dǎo)劑等互補技術(shù)方面取得了許多突破性的創(chuàng)新。ED x射線發(fā)射光譜法(lexes)和原子探針層析成像(apt)。
Cameca總部位于巴黎附近，在美國麥迪遜WI(Leap 5000和Eikos-UV原子探針的設(shè)計和制造地)以及巴西、中國、英國、德國、印度、日本、韓國、俄羅斯和中國臺灣等地設(shè)有生產(chǎn)設(shè)施。Cameca是Ametek®Inc.材料分析部門的業(yè)務(wù)部門，是的電子儀器和機電產(chǎn)品制造商，年銷售額約50億美元。