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EDI超純水設(shè)備在電子半導(dǎo)體行業(yè)的應(yīng)用

閱讀:418        發(fā)布時(shí)間:2019-5-5
   電子半導(dǎo)體行業(yè)生產(chǎn)過程中對(duì)水的應(yīng)用要求較高,因此大多企業(yè)都會(huì)選擇性價(jià)比較高的EDI超純水設(shè)備。電子半導(dǎo)體行業(yè)EDI超純水設(shè)備通常由多介質(zhì)過濾器,活性碳過濾器,鈉離子軟化器、精密過濾器等構(gòu)成預(yù)處理系統(tǒng)、RO反滲透主機(jī)系統(tǒng)、離子交換混床(EDI電除鹽系統(tǒng))系統(tǒng)等構(gòu)成主要設(shè)備系統(tǒng)。

  原水箱、中間水箱、RO純水水箱、超純水水箱均設(shè)有液位控制系統(tǒng)、高低壓水泵均設(shè)有高低壓壓力保護(hù)裝置、在線水質(zhì)檢測(cè)控制儀表、電氣采用PLC可編程控制器,真正做到了無人值守,同時(shí)在工藝選材上采用推薦和客戶要求相統(tǒng)一的方法,使該設(shè)備與其它同類產(chǎn)品相比較,具有更高的性價(jià)比和設(shè)備可靠性。

  我國電子工業(yè)部把電子級(jí)水質(zhì)技術(shù)分為五個(gè)行業(yè)等級(jí)。高純水的國家標(biāo)準(zhǔn)為:GB1146.1-89至GB1146.11-89 ,高純水的電子級(jí)水分為五個(gè)級(jí)別:Ⅰ級(jí)、Ⅱ級(jí)、Ⅲ級(jí)、Ⅳ級(jí)和Ⅴ級(jí),該標(biāo)準(zhǔn)是參照ASTM電子級(jí)標(biāo)準(zhǔn)而制定的。電阻分別對(duì)應(yīng)為:18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm,以區(qū)分不同水質(zhì)。

  超純水的水質(zhì)標(biāo)準(zhǔn)中所規(guī)定的各項(xiàng)指標(biāo)的主要依據(jù)有:1.微電子工藝對(duì)水質(zhì)的要求;2.制水工藝的水平; 3.檢測(cè)技術(shù)的現(xiàn)狀。

  超純水在電子元器件生產(chǎn)中的重要作用日益突出,超純水水質(zhì)已經(jīng)成為影響電子元器件產(chǎn)品質(zhì)量、生產(chǎn)成品率以及生產(chǎn)成本的重要因素之一,水質(zhì)要求也是越來越高。

  在電子元器件的生產(chǎn)過程當(dāng)中,超純水主要用作清洗用水以及用來配制各種溶液、漿料,不同的電子元器件在生產(chǎn)過程中純水的用途及對(duì)水質(zhì)的要求也略有不同。因此電子行業(yè)的生產(chǎn)用水離不開EDI超純水設(shè)備,這也是電子行業(yè)為啥為用EDI超純水設(shè)備的原因。

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