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實(shí)現(xiàn)微區(qū)超高靈敏度分析技術(shù)：

1、高亮度肖特基發(fā)射體

場發(fā)射電子槍采用的肖特基發(fā)射體比一般傳統(tǒng)SEM使用的發(fā)射體針尖直徑更大，輸出更高。即可以保持其高亮度，還可提供高靈敏度分析的穩(wěn)定大電流。

2、EPMA電子光學(xué)系統(tǒng)

電子光學(xué)系統(tǒng)，聚光透鏡盡可能的接近電子槍一側(cè)，交叉點(diǎn)不是靠聚光透鏡形成，而是由安裝在與物鏡光闌相同位置上，具有獨(dú)立構(gòu)成與控制方式的可變光闌透鏡來形成交叉點(diǎn)的（日本：第4595778號(hào)）。簡單的透鏡結(jié)構(gòu)，既能獲得大束流，同時(shí)全部電流條件下設(shè)定合適的打開角度，將電子束壓縮到細(xì)。當(dāng)然是不需要更換物鏡光闌的。

3、超高真空排氣系統(tǒng)

電子槍室、中間室、分析腔體之間分別安裝有篩孔（orifice）間隔方式的2級(jí)差動(dòng)排氣系統(tǒng)。中間室與分析腔體間的氣流孔做到小，以控制流入中間室的氣體，使電子槍室始終保持著超高真空，確保發(fā)射體穩(wěn)定工作。

4、高靈敏度X射線譜儀

最多可同時(shí)搭載5通道兼顧高靈敏度與高分辨率的4英寸X射線譜儀。52.5°的X射線取出角在提高了X射線信號(hào)的空間分辨率的同時(shí)，又可減小樣品對(duì)X射線的吸收，實(shí)現(xiàn)高靈敏度的分析。