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鋼研納克檢測技術(shù)股份有限公司

ICP質(zhì)譜儀應(yīng)用原理和基本組成

時間:2018-1-29 閱讀:1976
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ICP質(zhì)譜儀zui重要的應(yīng)用是分離同位素并測定它們的原子質(zhì)量及相對豐度。測定原子質(zhì)量的精度超過化學(xué)測量方法,大約2/3以上的原子的質(zhì)量是用質(zhì)譜方法測定的。由于質(zhì)量和能量的當(dāng)量關(guān)系,由此可得到有關(guān)核結(jié)構(gòu)與核結(jié)合能的知識。對于可通過礦石中提取的放射性衰變產(chǎn)物元素的分析測量,可確定礦石的地質(zhì)年代。
質(zhì)譜方法還可用于有機化學(xué)分析,特別是微量雜質(zhì)分析,測量分子的分子量,為確定化合物的分子式和分子結(jié)構(gòu)提供可靠的依據(jù)。由于化合物有著像指紋一樣的*質(zhì)譜,ICP質(zhì)譜儀在工業(yè)生產(chǎn)中也得到廣泛應(yīng)用。
 
ICP質(zhì)譜儀的原理
1.利用聚焦的一次離子束在樣品表面上進行穩(wěn)定的轟擊,一次離子可能受到樣品表面的背散射,也有部分進入樣品表面,這部分離子把能量傳遞給晶格,當(dāng)入射能量大于晶格對原子的束縛能是,部分原子脫離晶格向表面運動,并且產(chǎn)生原子間的級聯(lián)碰撞,當(dāng)這一能量傳遞到表面,并且大于表面的束縛能時,促使表面原子脫離樣品,謂之濺射;
2.一次離子引發(fā)的濺射大部分為中性原子或分子,也有少量荷電集團,包括帶電離子、分子、原子團,按照荷質(zhì)比經(jīng)過質(zhì)譜分離;
3.收集經(jīng)過質(zhì)譜分子的二次離子,可以得知樣品表面和體內(nèi)的元素組成和分布。
 
ICP質(zhì)譜儀的基本組成
ICP質(zhì)譜儀的基本組成包括進樣系統(tǒng)、離子源、質(zhì)量分析器、檢測器、真空系統(tǒng)和計算機控制與數(shù)據(jù)處理系統(tǒng)等。
1、進樣系統(tǒng):將樣品送進離子源。
2、離子源:將樣品電離,得到帶有樣品信息的離子。
3、質(zhì)量分析器:將離子源產(chǎn)生的離子按m/z大小分離開。
4、檢測器:用以測量和記錄離子流強度,得出質(zhì)譜圖。
5、真空系統(tǒng):保證離子源中燈絲的正常工作,保證離子在離子源和質(zhì)量分析器中正常運行。
6、計算機控制與數(shù)據(jù)處理系統(tǒng):通過計算機對質(zhì)譜儀進行控制,通過軟件對質(zhì)譜數(shù)據(jù)進行處理。

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