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2021
04-282021
04-262021
04-252021
04-212021
04-202021
04-202021
04-192021
04-19PSS單顆粒光學(xué)傳感技術(shù)在AccuSizer 780系列產(chǎn)品上成功應(yīng)用
單顆粒光學(xué)傳感(SPOS)技術(shù),成功將光消減(也稱之為“光阻法”)和光散射兩種物理作用進(jìn)行了結(jié)合,利用光消減可獲得較大的動態(tài)粒徑范圍,通過光散射可增加對小粒子的靈敏度,因此,SPOS技術(shù)具有非常高的精...2021
04-192021
04-132021
04-092021
04-06典型的高壓微射流納米均質(zhì)機(jī)應(yīng)用領(lǐng)域有哪些?
均質(zhì)機(jī)的作用主要有:提高產(chǎn)品的均勻度和穩(wěn)定性;增加保質(zhì)期,減少反應(yīng)時間從而節(jié)省催化劑或添加劑,改變產(chǎn)品的稠度改善產(chǎn)品的口味和色澤等等,均質(zhì)機(jī)為無數(shù)工藝流程的革新以及各種新產(chǎn)品的開發(fā)應(yīng)用提供了簡便而卓有...2021
04-062021
03-262021
03-22了解下意大利PSI高壓微射流均質(zhì)機(jī)的在線清洗和在線滅菌技術(shù)
對生產(chǎn)設(shè)備進(jìn)行充分及時的清洗和滅菌處理一直都是生產(chǎn)工藝環(huán)節(jié)中相當(dāng)重要的步驟。如制劑生產(chǎn)過程中殘留的原輔料、不溶性微粒,食品飲料生產(chǎn)過程中殘留的微生物等等。為避免這些殘留物對下批產(chǎn)品產(chǎn)生不良影響,清洗和...2021
03-15微射流均質(zhì)機(jī)的原理和技術(shù)參數(shù)介紹
微射流高壓均質(zhì)機(jī)主要是由分散單元和增壓機(jī)構(gòu)組成。在增壓機(jī)構(gòu)的作用下,利用液壓泵產(chǎn)生的高壓,流體經(jīng)過孔徑很微小的閥心,產(chǎn)生幾倍音速的流體,并在分散單元的狹小縫隙間快速通過,進(jìn)行強(qiáng)烈的高速撞擊。在撞擊過程...2021
03-15利用LUMiSizer®表征納米氧化物水性分散體的分散性,穩(wěn)定性和粒徑
利用LUMiSizer®表征納米氧化物水性分散體的分散性,穩(wěn)定性和粒徑納米氧化物(如納米Al2O3、納米TiO2和納米ZnO等)水性分散體是納米氧化物粒子在水中的分散體。在多數(shù)情況下,納米氧化...2021
03-12高壓微射流均質(zhì)機(jī)很難選?考慮好這些就不難!
近年來,高壓微射流均質(zhì)機(jī)的應(yīng)用需求正在逐步擴(kuò)大。與傳統(tǒng)的高壓閥式均質(zhì)機(jī)相比,采用固定幾何結(jié)構(gòu)均質(zhì)腔的高壓微射流均質(zhì)機(jī)能夠以更加穩(wěn)定可控的剪切力處理物料,使得樣品在均一性、分散性等方面上更勝*,且平均粒...2021
03-1017 PSS AN CMP10 CMP slurry 中的大顆粒
ApplicationNoteAN–CMP10AnalyzingLargeParticlesinCMPSlurries分析CMPSlurry中的大顆?;瘜W(xué)機(jī)械拋光(CMP)工藝的質(zhì)量取決于拋光設(shè)備和漿...2021
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