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當(dāng)前位置:上海茂育科教設(shè)備有限公司>>化工工程實(shí)訓(xùn)設(shè)備>> MYHG-34萃取精餾實(shí)驗(yàn)裝置(單塔)

萃取精餾實(shí)驗(yàn)裝置(單塔)

參  考  價(jià)面議
具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)

產(chǎn)品型號MYHG-34

品       牌茂育科教

廠商性質(zhì)生產(chǎn)商

所  在  地上海市

更新時(shí)間:2024-06-23 14:30:00瀏覽次數(shù):806次

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萃取精餾實(shí)驗(yàn)裝置(單塔)可以實(shí)現(xiàn)普通精餾操作,也可實(shí)現(xiàn)反應(yīng)精餾;既可實(shí)現(xiàn)連續(xù)操作,又可進(jìn)行間歇操作;既可采用分相回流,又可采用混相回流。

萃取精餾實(shí)驗(yàn)裝置(單塔)可以實(shí)現(xiàn)普通精餾操作,也可實(shí)現(xiàn)反應(yīng)精餾;既可實(shí)現(xiàn)連續(xù)操作,又可進(jìn)行間歇操作;既可采用分相回流,又可采用混相回流。

技術(shù)指標(biāo)

萃取精餾實(shí)驗(yàn)裝置(單塔)

裝置特點(diǎn)

1、利用本裝置,可以實(shí)現(xiàn)普通精餾操作,也可實(shí)現(xiàn)反應(yīng)精餾;既可實(shí)現(xiàn)連續(xù)操作,又可進(jìn)行間歇操作;既可采用分相回流,又可采用混相回流。

2、反應(yīng)精餾既服從質(zhì)量作用定律又服從相平衡規(guī)律,適于進(jìn)行可逆平衡反應(yīng)和異構(gòu)體的分離。實(shí)驗(yàn)體系為乙酸乙酯的制備。在塔身上部某位置加入帶有酸催化劑的醋酸,塔身下部某位置加入乙醇。

3、玻璃塔外壁采用透明導(dǎo)電膜保溫抵抗熱損失,塔內(nèi)可裝填不同的填料。

4、塔體留有側(cè)線進(jìn)、出口,可供進(jìn)、出料和取樣、測溫用。

5、集約化控制,智能化測、控溫,操作方便易行。

裝置功能

1、熟悉精餾單元操作過程的設(shè)備與流程。

2、掌握反應(yīng)精餾的原理及操作。

3、學(xué)習(xí)精餾塔效率的測定方法。

主要配置

玻璃精餾塔、冷凝器、再沸器、預(yù)熱器、蠕動泵、溫度控制儀、溫度顯示儀、流量計(jì)、不銹鋼框架、控制屏。

公用設(shè)施

水:裝置需冷卻水,自帶和自來水管相連的接口。自來水通過裝置接口進(jìn)入塔頂?shù)睦淠骱笈懦觥?/span>

液:裝置自帶玻璃高位槽。實(shí)驗(yàn)時(shí)經(jīng)流量計(jì)進(jìn)入精餾塔釜。

電:電壓AC220V,功率2KW,標(biāo)準(zhǔn)單相三線制。

技術(shù)參數(shù)

1、精餾塔塔徑φ25mm,塔高1400mm,材質(zhì)為玻璃塔結(jié)構(gòu),塔內(nèi)填裝φ3x 3 mm不銹鋼θ網(wǎng)環(huán)型填料。塔釜為三口燒瓶,容積1000ml,塔外壁鍍有金屬保溫膜,通電加熱保溫,功率:300W。

2、塔釜加熱:塔釜置于1000W電熱包中。采用電壓控制器控制釜溫。

3、250ml高位玻璃加料瓶,LZB--2轉(zhuǎn)子流量計(jì):流量范圍1.6~16ml/min ,數(shù)量2套。

4、溫度控制及儀表:3個(gè)數(shù)顯溫度控制儀,量程:0-150℃;溫度誤差≤2℃。

5、塔頂冷凝器為蛇管冷凝器,塔頂冷凝液體的回流采用擺動式回流比控制器操作。此控制系統(tǒng)由塔頭上擺錘、電磁鐵線圈、回流比計(jì)數(shù)器等儀表組成。

6、各項(xiàng)操作及溫度、回流比、流量的顯示、調(diào)節(jié)、控制全在控制屏面板進(jìn)行。

7、框架為304不銹鋼材質(zhì),結(jié)構(gòu)緊湊,外形美觀,流程簡單、操作方便。

8、外形尺寸:1200×500×2200mm(長×寬×高),外形為可移動式設(shè)計(jì),帶3寸雙剎車輪。

測控組成

變量

檢測機(jī)構(gòu)

顯示機(jī)構(gòu)

執(zhí)行機(jī)構(gòu)

流量

轉(zhuǎn)子流量計(jì)

轉(zhuǎn)子流量計(jì)

手動調(diào)節(jié)

回流比

回流比繼電器

回流比控制顯示儀

回流比控制顯示儀

塔節(jié)溫度

PT100鉑電阻

數(shù)字溫度儀表

塔頂溫度

PT100鉑電阻

數(shù)字溫度儀表

塔釜溫度

PT100鉑電阻

數(shù)字溫度控制儀

固態(tài)調(diào)壓模塊


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