GMP車(chē)間凈化工程潔凈室是指將一定空間范圍內(nèi)之空氣中的微粒子、有害空氣、細(xì)菌等之污染物排除，并將室內(nèi)之溫度、潔凈度、室內(nèi)壓力、氣流速度與氣流分布、噪音振動(dòng)及照明、靜電控制在某一需求范圍內(nèi)，而所給予特別設(shè)計(jì)之凈化車(chē)間潔凈室(CleanRoom)，亦稱(chēng)為無(wú)塵室或清凈室。zui主要之作用在于控制產(chǎn)品(如硅芯片等)所接觸之大氣的潔凈度日及溫濕度，使產(chǎn)品能在一個(gè)良好之環(huán)境空間中生產(chǎn)、制造，此空間我們稱(chēng)之為無(wú)塵室。按照慣例，
GMP車(chē)間凈化工程無(wú)塵凈化級(jí)別主要是根據(jù)每立方米空氣中粒子直徑大于劃分標(biāo)準(zhǔn)的粒子數(shù)量來(lái)規(guī)定。也就是說(shuō)所謂無(wú)塵并非100%沒(méi)有一點(diǎn)灰塵，而是控制在一個(gè)非常微量的單位上。當(dāng)然這個(gè)標(biāo)準(zhǔn)中符合灰塵標(biāo)準(zhǔn)的顆粒相對(duì)于我們常見(jiàn)的灰塵已經(jīng)是小的微乎其微，但是對(duì)于光學(xué)構(gòu)造而言，哪怕是一點(diǎn)點(diǎn)的灰塵都會(huì)產(chǎn)生非常大的響，所以在光學(xué)構(gòu)造產(chǎn)品的生產(chǎn)上，無(wú)塵是必然的要求。
1垂直單向流潔凈室選擇縱、橫剖面各一個(gè)，以及距地面高度0.8m、1.5m的水平面各一個(gè)；水平單向流潔凈室選擇縱剖面和工作區(qū)高度水平面各一個(gè)，以及距送、回風(fēng)墻面0.5和房間中心處等3個(gè)橫剖面，所有面上的測(cè)點(diǎn)間距均為0.2m~1m；
2)亂流潔凈室選擇通過(guò)代表性送風(fēng)口中心的縱、橫剖面和工作區(qū)高度的水平面各一個(gè)，剖面上的測(cè)點(diǎn)間距為0.2m~0.5m，水平面上測(cè)點(diǎn)間距為0.5m~1m。兩個(gè)風(fēng)口之間的中線(xiàn)上應(yīng)有測(cè)點(diǎn)。
2測(cè)定方法：用發(fā)煙器或懸掛單絲線(xiàn)的方法逐點(diǎn)觀察和記錄氣流流向，并可用量角器量出角度，發(fā)煙源可用超聲波霧化（0.5um~50um水霧）的去離子（DI）水、噴射方法生成的乙醇或二醇、固態(tài)二氧化碳（干冰）等，在高強(qiáng)度光源下示蹤。在確保對(duì)人和物無(wú)傷害時(shí)可以四氯化鈦（TiCl4）作示蹤粒子。
