半導(dǎo)體器件和電路制造技術(shù)飛速發(fā)展，器件特征尺寸不斷下降，而集成度不斷上升。這兩方面的變化都給失效缺陷定位和失效機(jī)理的分析帶來巨大的挑戰(zhàn)。對于半導(dǎo)體失效分析（FA）而言，微光顯微鏡（Emission Microscope, EMMI）是一種相當(dāng)有用且效率高的分析工具。微光顯微鏡其高靈敏度的偵測能力，可偵測到半導(dǎo)體組件中電子－電洞對再結(jié)合時所發(fā)射出來的光線，能偵測到的波長約在350nm ~ 1100nm 左右。它可以廣泛的應(yīng)用于偵測IC 中各種組件缺陷所產(chǎn)生的漏電流，如： Gate oxide defects / Leakage、Latch up、ESD failure、junction Leakage等。
EMMI的工作原理圖如下：
由于加速載流子發(fā)光，即在局部的強(qiáng)場作用下產(chǎn)生的高速載流子與晶格原子發(fā)生碰撞離化，發(fā)射出光子，通常其光譜在可見光范圍內(nèi)有一個寬的分布（ 650-1050 nm ），采用深度制冷的CCD相機(jī)可以拍攝到此現(xiàn)象。
先鋒科技公司代理的英國安道爾公司深度制冷CCD相機(jī)，5年的真空封閉質(zhì)保期，免除了您對于售后造成的困擾，同時相機(jī)在近紅外區(qū)域具有好的信噪比，針對EMMI的應(yīng)用，主要推薦CCD相機(jī)如下：
型號 | Clara | iKon M 934 BRDD |
生產(chǎn)廠家 | 英國Andor公司 | 英國Andor公司 |
分辨率 | 1392*1040 | 1024*1024 |
zui低制冷溫度 | 零下45度 | 零下80度 |
像素尺寸 | 6.45um*6.45um | 13um*13um |
900nm量子效率 | 10% | 65% |
計算機(jī)接口 | USB2.0 | USB2.0 |
zui高幀速 | 11fps | 2fps |
是否含有EM增益 | 否 | 否 |
產(chǎn)品優(yōu)勢及建議應(yīng)用 | 具有軟件可選近紅外增強(qiáng)模式，很低的制冷溫度，適用于離線電致/光致熒光檢測 | 背感光芯片，具有zui高的量子效率及zui低的制冷溫度，是離線電致/光致熒光檢測的研究級產(chǎn)品 |
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