半導(dǎo)體硅片電阻率成像測(cè)定儀主要通過(guò)四探針?lè)y(cè)試單晶硅電阻率,具有自動(dòng)定位的三坐標(biāo)自動(dòng)測(cè)量系統(tǒng),可以自由設(shè)置測(cè)量點(diǎn)數(shù)量,自動(dòng)測(cè)試完成,可以對(duì)測(cè)試出的數(shù)據(jù)進(jìn)行2D成像,是智能化、集成化很高的晶圓電阻率測(cè)試儀器。
產(chǎn)品名稱:全自動(dòng)晶圓成像電阻率測(cè)試儀
一、產(chǎn)品概述
儀器采用了*電子技術(shù)進(jìn)行設(shè)計(jì)、裝配。具有功能選擇直觀、測(cè)量取數(shù)快、精度高、測(cè)量范圍寬、穩(wěn)定性好、結(jié)構(gòu)緊湊、易操作等特點(diǎn)。
二、儀器構(gòu)成:
1、 高精度電阻率測(cè)試儀
3、 測(cè)試探頭
高精度電阻率測(cè)量?jī)x:
1.1電阻率:0.00001~20000Ω.cm (可擴(kuò)展)
1.3電阻:0.00001~20000Ω.cm;
2.1量程0.01mV-2000 mV
2.3 精度:±0.1% ;
3、恒流源:
3.2電流誤差:±0.5%
三坐標(biāo)測(cè)試移動(dòng)品臺(tái):
2、X軸Y軸*小位移量:0.125MM
四探針測(cè)試電極:
上位機(jī)軟件測(cè)量成像系統(tǒng)
2、 測(cè)量點(diǎn)數(shù):可以設(shè)定
4、 2D成像:測(cè)試完成后,可以立體成像
——按照IEC60405的要求進(jìn)行降雨和噴鹽霧。——將絕緣子放置距5000W盜弧燈約48cm以內(nèi)就可達(dá)到模擬太陽(yáng)輻射。注:為了引用方便,各條款號(hào)與本標(biāo)準(zhǔn)正文相同。相同設(shè)計(jì)、材料和工藝情況下,只進(jìn)行一次。依次在至少800mm長(zhǎng)的3只試品上進(jìn)行。-陡波前沖擊電壓:兩個(gè)電極間的距離為500mm;
無(wú)擊穿,依次在至少800mm長(zhǎng)的6只試品上進(jìn)行。沒(méi)有破壞、沒(méi)有*抽出。2只試品,爬電距離在484mm至693mm之間。電壓:1kV每34.6mm的爬電距離,不超過(guò)3次過(guò)流中斷,沒(méi)有起痕,沒(méi)有擊穿,沒(méi)有蝕損至芯棒。注:對(duì)在惡劣的環(huán)境條件下使用的絕緣子,由用戶和制造廠協(xié)議可采用兩種供選擇的試驗(yàn)程序。10只試品,6只試品,無(wú)擊穿,無(wú)閃絡(luò),5只試樣,依次在絕緣距離不小于800mm的4只試品上進(jìn)行。注:本項(xiàng)試驗(yàn)進(jìn)行與否,以及試驗(yàn)電壓和接受的干水平,由相關(guān)產(chǎn)品標(biāo)準(zhǔn)或供需雙方協(xié)議規(guī)定。無(wú)破壞,無(wú)裂紋或裂紋未達(dá)到芯棒。陡波前沖擊電壓,兩電極間相隔500mm,正負(fù)極性各25次外部閃絡(luò)。在下表D.1中綜合給出所有試驗(yàn)及其次序和試品數(shù)量。
表E.1給出了本標(biāo)準(zhǔn)與IEC1992技術(shù)性差異及其原因的一覽表。5.1.4.2陡度由“不小于1000kV/橢”修改為'陡度不小于1000kV/Ms但上限不超過(guò)5。陡度應(yīng)該有范圍,以便調(diào)整波形;對(duì)于整只正常生產(chǎn)的產(chǎn)品的爬電比距大于20mm/kV時(shí),試驗(yàn)電壓應(yīng)經(jīng)供需雙方協(xié)議確定
半導(dǎo)體硅片電阻率成像測(cè)定儀
半導(dǎo)體硅片電阻率成像測(cè)定儀