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當(dāng)前位置:上海皓越真空設(shè)備有限公司> 供求商機(jī)> AHS-CVD系統(tǒng)
這款CVD系統(tǒng)集真空管式爐,多通道氣路系統(tǒng)和真空系統(tǒng)組成,可根據(jù)用戶需要設(shè)計(jì)生產(chǎn)(有雙溫區(qū)、三溫區(qū)、多溫區(qū)),可預(yù)抽真空(有高真空、低真空),通多種氣氛(供氣系統(tǒng)有質(zhì)子流量器和浮子流量控制器)。性能可靠??刂齐娐愤x用模糊PID程控技術(shù),具有控溫精度高,溫沖幅度小,性能可靠,簡單易操作等特點(diǎn)。CVD生長系統(tǒng)適用于CVD工藝,如碳化硅鍍膜、陶瓷基片導(dǎo)電率測試、ZnO納米結(jié)構(gòu)的可控生長、陶瓷電容(MLCC)氣氛燒結(jié)等實(shí)驗(yàn)。
高真空空管式爐 | 爐管尺寸: | 外徑Φ60×1000mm、Φ80×1000mm |
極限溫度: | 1700 ℃ | |
工作溫度: | 800 -1600 ℃ | |
溫度控制器: | PID自動(dòng)控制 晶閘管(可控硅)輸出功率, 50段可編程控制器 | |
zui快升降溫速率: | 1400℃以下≤10℃/min,1400℃到1600℃≤5℃/min | |
加熱區(qū): | 500mm | |
恒溫區(qū): | 250mm | |
溫度精度: | ±1 ℃ | |
電源: | 單相220V,交流50Hz | |
多通道流量計(jì)控制系統(tǒng) | 標(biāo)準(zhǔn)量程: | 100,200 ,500,1000SCCM; (以氮?dú)鈽?biāo)定,除以上標(biāo)準(zhǔn)外量程可選) |
準(zhǔn)確度: | ±1.5% | |
工作壓差范圍: | 0.01~0.05 MPa | |
zui大壓力: | 0.02MPa | |
接頭類型: | Φ6雙卡套不銹鋼接頭 | |
高真空系統(tǒng) | 泵體積流量N2: | 33 L/S |
壓縮比: | 10:11 | |
實(shí)驗(yàn)真空值: | 10-5mbar | |
功率消耗: | 140W | |
啟動(dòng)時(shí)間: | 2min | |
電源要求: | 185-265VAC |
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