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上海皓越真空設(shè)備有限公司

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CVD管式爐
  • CVD管式爐

貨物所在地：上海上海

所在地： 上海

更新時間：2025-01-29 21:00:07

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這款CVD系統(tǒng)集真空管式爐，多通道氣路系統(tǒng)和真空系統(tǒng)組成，可根據(jù)用戶需要設(shè)計生產(chǎn)（有雙溫區(qū)、三溫區(qū)、多溫區(qū)），可預(yù)抽真空（有高真空、低真空），通多種氣氛（供氣系統(tǒng)有質(zhì)子流量器和浮子流量控制器）。性能可靠?？刂齐娐愤x用模糊PID程控技術(shù)，具有控溫精度高，溫沖幅度小，性能可靠，簡單易操作等特點。CVD管式爐

這款CVD系統(tǒng)集真空管式爐，多通道氣路系統(tǒng)和真空系統(tǒng)組成，可根據(jù)用戶需要設(shè)計生產(chǎn)（有雙溫區(qū)、三溫區(qū)、多溫區(qū)），可預(yù)抽真空（有高真空、低真空），通多種氣氛（供氣系統(tǒng)有質(zhì)子流量器和浮子流量控制器）。性能可靠?？刂齐娐愤x用模糊PID程控技術(shù)，具有控溫精度高，溫沖幅度小，性能可靠，簡單易操作等特點。CVD生長系統(tǒng)適用于CVD工藝，如碳化硅鍍膜、陶瓷基片導(dǎo)電率測試、ZnO納米結(jié)構(gòu)的可控生長、陶瓷電容（MLCC）氣氛燒結(jié)等實驗。CVD管式爐CVD管式爐

高真空管式爐

 爐管尺寸

外徑Φ60×1000mm,Φ80×1000mm,Φ100×1000mm

 極限溫度

1700 ℃

工作溫度

800 -1600 ℃

溫度控制器

PID自動控制 晶閘管（可控硅）輸出功率， 50段可編程控制器

zui快升降溫速率

1400℃以下≤10℃/min，1400℃到1600℃≤5℃/min

加熱區(qū)

360mm

恒溫區(qū)

150mm

溫度精度

±1 ℃

電源

單相220V,交流50Hz


多通道流量計控制系統(tǒng)

標(biāo)準(zhǔn)量程

100，200 ，500，1000SCCM； （以氮氣標(biāo)定，除以上標(biāo)準(zhǔn)外量程可選）

準(zhǔn)確度

±1.5%

工作壓差范圍

0.01～0.05 MPa

zui大壓力

0.02MPa

接頭類型

Φ6雙卡套不銹鋼接頭

高真空系統(tǒng)

泵體積流量N2

33 L/S

壓縮比

10:11    

實驗真空值

6.7*10-3Pa

功率消耗

140W

啟動時間

2min

電源要求：

185-265VAC

 本公司可定制各種CVD系統(tǒng)。 

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