產(chǎn)品簡(jiǎn)介
詳細(xì)介紹
強(qiáng)大的軟件功能:
界面友好,操作簡(jiǎn)便,用戶點(diǎn)擊幾下鼠標(biāo)就可以完成測(cè)量。便捷快速的保存、讀取測(cè)量得到的反射譜數(shù)據(jù)數(shù)據(jù)處理功能強(qiáng)大,可同時(shí)測(cè)量多達(dá)四層的薄膜的反射率數(shù)據(jù)。一次測(cè)量即可得到四層薄膜分別的厚度和光學(xué)常數(shù)等數(shù)據(jù)。材料庫(kù)中包含了大量常規(guī)的材的光學(xué)常數(shù)數(shù)據(jù)。用戶可以非常方便地自行擴(kuò)充材料數(shù)據(jù)庫(kù)。
產(chǎn)品功能適用性:
該儀器適用于多種介質(zhì),半導(dǎo)體,薄膜濾光片和液晶等薄膜和涂層的厚度測(cè)量。
典型的薄膜材料為:
SiO2、CaF2、MgF2、光刻膠、多晶硅、非晶硅、SiNx、TiO2、聚酰亞胺、高分子膜。
典型的基底材料為:
SiGe、GaAs、ZnS、ZnSe、鋁丙烯酸、藍(lán)寶石、玻璃、聚碳酸酯、聚合物、石英。
儀器具有開(kāi)放性設(shè)計(jì),儀器的光纖探頭可很方便地取出,通過(guò)儀器附帶的光纖適配器(如圖所示)連接到帶C-mount的顯微鏡(顯微鏡需另配),就可以使本測(cè)量?jī)x適用于微區(qū)(>10μm,與顯微鏡放大率有關(guān))薄膜厚度的測(cè)量。
技術(shù)指標(biāo):
名稱 | 參數(shù) |
厚度范圍 | 20nm-50um(只測(cè)膜厚), 100nm-10um(同時(shí)測(cè)量膜厚和光學(xué)常數(shù)n,k) 根據(jù)薄膜材料的種類,其范圍有所不同。 |
準(zhǔn)確性 | <1nm或<0.5% |
重復(fù)性 | 0.1nm |
波長(zhǎng)范圍 | 380nm-1000nm |
可測(cè)層數(shù) | 1-4層 |
樣品尺寸 | 樣品鍍膜區(qū)直徑>1.2mm |
測(cè)量速度 | 5s-60s |
光斑直徑 | 1.2mm-10mm可調(diào) |
樣品臺(tái) | 290mm*160mm |
光源 | 長(zhǎng)壽命溴鎢燈(2000h) |
光纖 | 純石英寬光譜光纖 |
探測(cè)器 | 進(jìn)口光纖光譜儀 |
電源 | AC100V-240V,50HZ-60HZ |
重量 | 18kg |
尺寸 | 300mm*300mm*350mm |