化工儀器網(wǎng)>產(chǎn)品展廳>實(shí)驗(yàn)室常用設(shè)備>其它實(shí)驗(yàn)室常用設(shè)備>其它實(shí)驗(yàn)室設(shè)備>JS-PECVD-D12111H-5QG 九所科技PECVD實(shí)驗(yàn)設(shè)備廠家定制定做
JS-PECVD-D12111H-5QG 九所科技PECVD實(shí)驗(yàn)設(shè)備廠家定制定做
- 公司名稱 天津市九所科技發(fā)展有限公司
- 品牌 九所科技
- 型號(hào) JS-PECVD-D12111H-5QG
- 產(chǎn)地
- 廠商性質(zhì) 生產(chǎn)廠家
- 更新時(shí)間 2025/3/4 16:48:26
- 訪問(wèn)次數(shù) 15
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實(shí)驗(yàn)電爐、實(shí)驗(yàn)室儀器制造;實(shí)驗(yàn)室分析儀器制造;中試電爐、工 業(yè)電爐非標(biāo)自動(dòng)化設(shè)備等
產(chǎn)地類別 | 國(guó)產(chǎn) | 應(yīng)用領(lǐng)域 | 化工,生物產(chǎn)業(yè),能源,電子,電氣 |
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PECVD設(shè)備是一種利用等離子體技術(shù)來(lái)促進(jìn)化學(xué)反應(yīng)的設(shè)備,PECVD設(shè)備的工作原理基于化學(xué)氣相沉 積(CVD),但通過(guò)引入等離子體能量,可以提高 反應(yīng)速率、降低反應(yīng)溫度、改變薄膜成分和結(jié) 構(gòu) ,以 及 增 強(qiáng) 薄 膜 的 附 著 力 和 致 密 性 。在 PECVD過(guò)程中,使用低氣壓下的低溫等離子體 在沉積室的陰極觸發(fā)輝光放電,或通過(guò)其他加 熱裝置將樣品加熱至設(shè)定溫度,并引入特定量 的工藝氣體。這些氣體在等離子體的作用下進(jìn) 行多種化學(xué)反應(yīng),最終在樣品表面生成一層固態(tài)薄膜。滿足不同領(lǐng)域的研究需求。