RNKW-PTFEFC PTFE方形槽20L特氟龍酸槽可帶下口閥定制
參考價 | ¥1000.00-¥13000.00 |
- 公司名稱 南京瑞尼克科技開發(fā)有限公司
- 品牌南京瑞尼克
- 型號RNKW-PTFEFC
- 所在地南京市
- 廠商性質(zhì)生產(chǎn)廠家
- 更新時間2025/2/7 15:16:21
- 訪問次數(shù) 63
300*200*50mm | 1450.00元 | 50 件可售 |
300*300*50mm | 1800.00元 | 50 件可售 |
300*200*100mm | 2650.00元 | 50 件可售 |
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微波消解罐,高壓消解罐,水熱釜,石墨消解儀,趕酸電熱板,消解器,防腐電熱板,酸純化器,全自動器皿清洗裝置,F(xiàn)EP系列產(chǎn)品,PFA系列產(chǎn)品,PTFE系列產(chǎn)品,取酸器,COD消解儀等
應(yīng)用領(lǐng)域 | 化工,石油,能源,電子,制藥 | 耐酸堿 | 強(qiáng)酸強(qiáng)堿有機(jī)溶劑 |
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耐高溫 | 260℃ | 支持定制 | 尺寸款式可靈活加工,可以增加下料閥,蓋子等 |
PTFE方形槽20L特氟龍酸槽可帶下口閥定制
聚四氟乙烯方槽,圓桶主要用于半導(dǎo)體新材料行業(yè)存儲酸堿溶劑,具有耐腐蝕性,本底值低的特性,可用作清洗溶劑,我公司生產(chǎn)提供各種尺寸的四氟方槽,圓桶,一體成型,耐用無泄漏風(fēng)險,可根據(jù)客戶要求增加接頭,放料閥等配件,尺寸可定制,配套大型設(shè)備。
四氟桶規(guī)格:1L-50L,支持加工定制
貨號;RNKW-PTFEYT
四氟方槽常用尺寸:
300*200*50mm
300*200*100mm
300*200*150mm
300*200*200mm
400*300*50mm
400*300*100mm
400*300*200mm
400*300*300mm
貨號:RNKW-PTFEFC
PTFE方形槽20L特氟龍酸槽可帶下口閥定制
聚四氟乙烯(PTFE)酸槽憑借其優(yōu)異的化學(xué)穩(wěn)定性、耐高溫性和高純度特性,在半導(dǎo)體行業(yè)中扮演著至關(guān)重要的角色,主要用于以下幾個方面:
1. 濕法清洗工藝:
晶圓清洗: 在半導(dǎo)體制造過程中,晶圓需要經(jīng)過多次清洗以去除表面的污染物、顆粒和金屬雜質(zhì)。聚四氟乙烯酸槽可用于盛裝各種清洗液,如硫酸、氫氟酸、氨水等,對晶圓進(jìn)行高效清洗。
設(shè)備零部件清洗: 半導(dǎo)體生產(chǎn)設(shè)備中的零部件也需要定期清洗以去除沉積的雜質(zhì)和殘留物。聚四氟乙烯酸槽可用于盛裝清洗液,對零部件進(jìn)行浸泡或循環(huán)清洗。
2. 濕法刻蝕工藝:
晶圓刻蝕: 在半導(dǎo)體制造過程中,需要利用化學(xué)溶液對晶圓表面進(jìn)行選擇性刻蝕,以形成所需的電路圖案。聚四氟乙烯酸槽可用于盛裝刻蝕液,如氫氟酸、硝酸、磷酸等,對晶圓進(jìn)行精確刻蝕。
材料刻蝕: 一些半導(dǎo)體材料,如硅、二氧化硅等,也需要通過濕法刻蝕工藝進(jìn)行加工。聚四氟乙烯酸槽可用于盛裝相應(yīng)的刻蝕液,對材料進(jìn)行刻蝕。
3. 化學(xué)機(jī)械拋光 (CMP):
拋光液盛放: CMP 是半導(dǎo)體制造中用于平坦化晶圓表面的關(guān)鍵工藝。聚四氟乙烯酸槽可用于盛放 CMP 拋光液,為拋光過程提供穩(wěn)定的化學(xué)環(huán)境。
4. 其他應(yīng)用:
化學(xué)品儲存: 聚四氟乙烯酸槽可用于儲存各種高純化學(xué)品,如酸、堿、溶劑等,避免化學(xué)品與容器發(fā)生反應(yīng)而污染。
廢液收集: 聚四氟乙烯酸槽可用于收集半導(dǎo)體生產(chǎn)過程中產(chǎn)生的廢液,便于后續(xù)處理。
聚四氟乙烯酸槽在半導(dǎo)體行業(yè)應(yīng)用的優(yōu)勢:
優(yōu)異的化學(xué)穩(wěn)定性: 可耐受各種強(qiáng)酸、強(qiáng)堿、強(qiáng)氧化劑和有機(jī)溶劑的腐蝕,保證清洗和刻蝕過程的穩(wěn)定性和安全性。
高純度: 聚四氟乙烯材料本身具有極低的雜質(zhì)含量,不會對清洗液和刻蝕液造成污染,確保半導(dǎo)體產(chǎn)品的質(zhì)量。
耐高溫性: 可在高溫環(huán)境下使用,滿足一些特殊工藝的需求。
易于清洗: 表面光滑,不易粘附物質(zhì),清洗方便,可有效防止交叉污染。
使用壽命長: 耐腐蝕、耐高溫、機(jī)械性能好,使用壽命長,降低生產(chǎn)成本
圖片